涂布膜
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108025541A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201680055493.6

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 本发明提供一种涂布膜,例如,在暴露于高温时,抑制从膜中析出的酯环状三聚物,在膜保管时、膜使用时、膜加工时等,不会发生伴有酯环状三聚物的不良情况。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有涂布层,其中,所述涂布层含有具有酸基的加聚物树脂。

    聚酯薄膜
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111699092B

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN201980012433.X

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 提供一种新型聚酯薄膜,其为涉及具有经粗糙化的薄膜表面、且用于转印其表面状态的用途的聚酯薄膜,转印时的聚酯薄膜的可视性即识别性优异,而且即使形成脱模层,前述粗糙化状态也不会被平滑化,可以给对象物赋予期待的哑光感。提出了一种聚酯薄膜,其特征在于,其具备如下构成:在具备含有平均粒径为2.0μm以上的颗粒的含颗粒层的聚酯薄膜基材的前述含颗粒层表面形成脱模层而成的构成,所述聚酯薄膜的透射浓度OD值为0.10以上。

    涂布膜
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106573458B

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201580041300.7

    申请日:2015-10-08

    Abstract: 本发明提供一种涂布膜,能够抑制暴露于高温时由膜析出的酯环状三聚体,在保管膜时、使用膜时、加工膜时等,不会发生伴随酯环状三聚体的不良情况。在该涂布膜在聚酯膜的至少单面具有涂布层,该涂布层含有具有苯乙烯结构和(甲基)丙烯酸结构的树脂。

    涂布膜
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107207752B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201680007421.4

    申请日:2016-02-29

    Abstract: 本发明提供例如在暴露于高温后也能够高度抑制从膜的表面析出的寡聚物、并且与硬涂层、油墨等的被覆物的粘接性优异的涂布膜。上述涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的、厚度为74nm以下的涂布层,上述涂布液含有具有羟基和(甲基)丙烯酸酯结构的树脂和三聚氰胺化合物。

    涂布膜
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107207752A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201680007421.4

    申请日:2016-02-29

    Abstract: 本发明提供例如在暴露于高温后也能够高度抑制从膜的表面析出的寡聚物、并且与硬涂层、油墨等的被覆物的粘接性优异的涂布膜。上述涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的、厚度为74nm以下的涂布层,上述涂布液含有具有羟基和(甲基)丙烯酸酯结构的树脂和三聚氰胺化合物。

    干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜

    公开(公告)号:CN111699212B

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN201980010704.8

    申请日:2019-02-15

    Abstract: 提供:制成柔性印刷电路板等的干膜抗蚀层工序中能作为基材薄膜使用的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜。一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜,其特征在于,在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层,涂布层中的抗静电剂的含量为45质量%以下,在该涂布层中含有颗粒,相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计,粒径为30~80nm的颗粒AS的面积比率为60~99.9%的范围内,粒径为100~400nm的颗粒AL的面积比率为0.1~15%的范围内,实质上不含粒径超过1μm的颗粒。

    干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜

    公开(公告)号:CN111699212A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN201980010704.8

    申请日:2019-02-15

    Abstract: 提供:制成柔性印刷电路板等的干膜抗蚀层工序中能作为基材薄膜使用的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜。一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜,其特征在于,在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层,涂布层中的抗静电剂的含量为45质量%以下,在该涂布层中含有颗粒,相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计,粒径为30~80nm的颗粒AS的面积比率为60~99.9%的范围内,粒径为100~400nm的颗粒AL的面积比率为0.1~15%的范围内,实质上不含粒径超过1μm的颗粒。

    聚酯薄膜
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111699092A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN201980012433.X

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 提供一种新型聚酯薄膜,其为涉及具有经粗糙化的薄膜表面、且用于转印其表面状态的用途的聚酯薄膜,转印时的聚酯薄膜的可视性即识别性优异,而且即使形成脱模层,前述粗糙化状态也不会被平滑化,可以给对象物赋予期待的哑光感。提出了一种聚酯薄膜,其特征在于,其具备如下构成:在具备含有平均粒径为2.0μm以上的颗粒的含颗粒层的聚酯薄膜基材的前述含颗粒层表面形成脱模层而成的构成,所述聚酯薄膜的透射浓度OD值为0.10以上。

    干膜抗蚀剂用聚酯薄膜
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111989618B

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN201980026596.3

    申请日:2019-04-15

    Abstract: 提供一种干膜抗蚀剂用聚酯薄膜,其不仅能够实现高平坦性及透明性、薄膜的滑动性良好、薄膜的宽度方向的厚度不均少、能够卷取为卷状,而且此时能够使空气不会封在薄膜间,作为这样新的DFR用聚酯薄膜,其特征在于,是在特性粘度为0.65dl/g以上的基材聚酯薄膜的至少单面侧具备含颗粒表面层的干膜抗蚀剂用聚酯薄膜,前述基材聚酯薄膜以10~7000ppm的质量比例包含平均粒径为0.030~0.200μm的颗粒,是由实质上不含粒径为0.300μm以上的颗粒的聚酯层(称为“A层”)形成的单层或在表面具备该A层的多层的薄膜,前述含颗粒表面层包含平均粒径0.005~0.150μm的颗粒。

    涂布膜
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108025541B

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201680055493.6

    申请日:2016-12-26

    Abstract: 本发明提供一种涂布膜,例如,在暴露于高温时,抑制从膜中析出的酯环状三聚物,在膜保管时、膜使用时、膜加工时等,不会发生伴有酯环状三聚物的不良情况。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有涂布层,其中,所述涂布层含有具有酸基的加聚物树脂。

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