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公开(公告)号：CN105518041A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201480048455.9
申请日：2014-09-03
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F2/00 , G03F7/039
Abstract: 一种光刻用共聚物，其特征在于，其浊度Th(80)为1.0以上、4.6NTU以下，并且浊度Tm(80)为1.0以上、3.8NTU以下，该浊度Th(80)是这样的浊度，将在丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中添加正庚烷时使浊度成为10NTU的正庚烷添加量设为(X)h，该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中，光刻用共聚物的含量相对于丙二醇单甲醚乙酸酯溶液的总质量为20wt％，该浊度Th(80)是将该(X)h的80％的量的正庚烷添加到该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中时的、该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液的浊度；该浊度Tm是这样的浊度，将在丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中添加甲醇时使浊度成为5.0NTU的甲醇添加量设为(X)m，该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中，该光刻用共聚物的含量相对于丙二醇单甲醚乙酸酯溶液的总质量为20wt％，该浊度Tm是将该(X)m的80％的量的甲醇添加到该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液中时的、该丙二醇单甲醚乙酸酯溶液的浊度。
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公开(公告)号：CN105061454A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201510477325.3
申请日：2012-06-14
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D493/18 , C07D307/93 , C07D307/77
Abstract: 通过具有硼氢化反应工序和酸处理工序的方法，能够以高收率制造杂质少的醇化合物，上述硼氢化反应工序是在溶剂中使式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液，上述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后，加入酸而使得pH为0.5～4。式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基。
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公开(公告)号：CN104341551A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410389110.1
申请日：2014-08-08
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F220/18 , C08F6/10 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/038 , B01D61/14 , B01D61/147 , B01D61/22 , C08F220/18 , G03F7/0397 , G03F7/16 , C08F220/28 , C08F220/20
Abstract: 本申请提供一种未反应的单体或纯化工序中使用的不良溶剂的残存减少了的平板印刷用聚合物的制造方法。一种平板印刷用聚合物的制造方法，其具有聚合工序和纯化工序，所述聚合工序是使单体在聚合溶剂的存在下聚合，得到含有聚合物的聚合反应溶液的工序，所述纯化工序是将所述聚合反应溶液中的聚合物用再沉淀法纯化，得到纯化聚合物的湿粉的工序，所述纯化工序包括在过滤压差为50kPa以上的条件下进行过滤的工序，所述纯化聚合物的湿粉的固态成分含量超过40质量％、小于65质量％。
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公开(公告)号：CN104159937B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201380012848.X
申请日：2013-03-05
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/12 , C08F2/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种光刻用共聚物，具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元，将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液，按照洗脱顺序，分成体积均等的5个组分，其中，将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)～N(v4)摩尔％、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔％时，N(v1)/Nave为1.01～1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95～1.05。
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公开(公告)号：CN103619889B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201280026483.1
申请日：2012-05-30
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明将向反应器内至少供应单体和链转移剂、且反应器内的液体温度达到预先设定的聚合温度的时刻作为开始时刻T0，将开始进行令聚合反应停止的操作的时刻作为结束时刻T1。在从T0至即将到达[(T1-T0)/2]之前期间以及在从[(T1-T0)/2]至T1期间，向反应器内供应聚合引发剂。将从T0至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IA，从[(T1-T0)/2]至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IB。IA是聚合引发剂的总量中的50～100质量%，通过满足0.50＜IB/IA＜1.00的制造方法，能以高聚合率制造在聚合物末端残存的链转移剂残基减少、分子量的偏差改善的聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104231154A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410260961.6
申请日：2014-06-12
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/34 , G03F7/004
CPC classification number: C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/42 , C08F2220/283 , G03F7/0233 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂用共聚物，使用该抗蚀剂用共聚物时，灵敏度良好，形成的抗蚀剂图案的形状良好，抗蚀剂图案作为掩膜进行干蚀刻时的耐干蚀刻性良好，能够控制对基板进行干蚀刻加工时形成的图案的表面粗糙度。该抗蚀剂用共聚物具有基于具有金刚烷环等的环烃基、及与该环烃基键合的2个以上氰基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的结构单元(1)、具有内酯骨架和桥环结构的结构单元(2)和具有酸离去基团的结构单元(3)。
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公开(公告)号：CN104159937A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201380012848.X
申请日：2013-03-05
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/12 , C08F2/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种光刻用共聚物，具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元，将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液，按照洗脱顺序，分成体积均等的5个组分，其中，将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)～N(v4)摩尔％、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔％时，N(v1)/Nave为1.01～1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95～1.05。
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公开(公告)号：CN105153186A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201510477309.4
申请日：2012-06-14
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D493/18 , C07D307/89 , C07D307/00 , C07D307/88 , C08F220/18 , G03F7/039 , G03F7/00
Abstract: 通过具有硼氢化反应工序和酸处理工序的方法，能够以高收率制造杂质少的醇化合物，上述硼氢化反应工序是在溶剂中使式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液，上述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后，加入酸而使得pH为0.5～4。式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基。
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公开(公告)号：CN102471387B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201080031198.X
申请日：2010-07-07
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/00 , C08F220/10 , G03F7/26
CPC classification number: C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085
Abstract: 本发明提供一种聚合物的制造方法，所述聚合物可改善共聚物中构成单元的含有比率的分散性、以及分子量的分散性，能提高在溶剂中的溶解性、以及在抗蚀剂组合物中使用时的灵敏度。所述制造方法具有聚合工序，其中，一边向反应器内滴入单体以及聚合引发剂，一边聚合2种以上单体而得到聚合物，在聚合工序的初期供给第1溶液，所述第1溶液按照第1组成含有单体。在开始供给第1溶液之后或者开始供给的同时，开始滴入第2溶液，所述第2溶液按照第2组成含有单体。第2组成与计划得到的聚合物的目标组成相同，第1组成是考虑到目标组成和聚合中使用的各单体的反应性预先求出的组成。另外，在聚合工程的初期加大聚合引发剂的滴入速度。
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公开(公告)号：CN103619889A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280026483.1
申请日：2012-05-30
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明将向反应器内至少供应单体和链转移剂、且反应器内的液体温度达到预先设定的聚合温度的时刻作为开始时刻T0，将开始进行令聚合反应停止的操作的时刻作为结束时刻T1。在从T0至即将到达[(T1-T0)/2]之前期间以及在从[(T1-T0)/2]至T1期间，向反应器内供应聚合引发剂。将从T0至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IA，从[(T1-T0)/2]至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IB。IA是聚合引发剂的总量中的50～100质量%，通过满足0.50＜IB/IA＜1.00的制造方法，能以高聚合率制造在聚合物末端残存的链转移剂残基减少、分子量的偏差改善的聚合物。
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