公开(公告)号：CN102245750A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN200980149608.8

申请日：2009-11-25

Applicant: 三洋化成工业株式会社

Inventor： 铃木一充 ,  佐藤祥平 ,  杉山彩代

IPC: C11D10/02 ,  C11D1/12 ,  C11D3/04 ,  C11D3/37 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C11D1/008 ,  C11D1/12 ,  C11D3/349 ,  C11D3/361 ,  C11D11/0047

Abstract: 一种电子材料用清洗剂，该电子材料用清洗剂对细小的颗粒和有机物的清洗能力优良且可降低基板上的金属污染，并且可提高制造时的产率，能在短时间内清洗，使这种非常有效的高度清洗成为可能。本发明是一种电子材料用清洗剂，所述电子材料用清洗剂含有氨基磺酸(A)、分子内具有至少一个磺酸基或该磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)、螯合剂(C)以及水；优选25℃时pH为3以下；此外，优选(B)的重均分子量为1,000～2,000,000的高分子阴离子型表面活性剂(B1)。

公开(公告)号：CN102245750B

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN200980149608.8

申请日：2009-11-25

Applicant: 三洋化成工业株式会社

Inventor： 铃木一充 ,  佐藤祥平 ,  杉山彩代

IPC: C11D10/02 ,  C11D1/12 ,  C11D3/04 ,  C11D3/37 ,  G11B5/84 ,  H01L21/304

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C11D1/008 ,  C11D1/12 ,  C11D3/349 ,  C11D3/361 ,  C11D11/0047

Abstract: 一种电子材料用清洗剂，该电子材料用清洗剂对细小的颗粒和有机物的清洗能力优良且可降低基板上的金属污染，并且可提高制造时的产率，能在短时间内清洗，使这种非常有效的高度清洗成为可能。本发明是一种电子材料用清洗剂，所述电子材料用清洗剂含有氨基磺酸(A)、分子内具有至少一个磺酸基或该磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)、螯合剂(C)以及水；优选25℃时pH为3以下；此外，优选(B)的重均分子量为1,000～2,000,000的高分子阴离子型表面活性剂(B1)。

公开(公告)号：CN101848987A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200880106471.3

申请日：2008-09-12

Applicant: 三洋化成工业株式会社

Inventor： 铃木一充 ,  杉山彩代 ,  胜川吉隆

IPC: C11D17/00 ,  B08B3/08 ,  C11D1/02 ,  C11D1/66 ,  C11D3/04 ,  C11D3/16 ,  C11D3/37 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  C11D11/0047 ,  G03F1/82

Abstract: 本发明提供一种磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料用清洁剂，其可对磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料基板的表面赋予适度的蚀刻性，而不会损及该些基板表面的平坦性，并且该清洁剂藉由使用界面活性剂而使自基板表面脱离的颗粒的分散性提高，而实现优异的颗粒除去性，藉此，提高制造良率以及在短时间内完成清洁率极高的高度清洁。该电子材料用清洁剂含有界面活性剂(A)，上述清洁剂的特征在于：在用作清洁液时的有效成分浓度下、25℃下的pH值及氧化还原电位(V)[单位为mV，vsSHE]满足下述数式(1)。V≤-38.7×pH值+550 (1)。