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公开(公告)号:CN100457966C
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN03125515.9
申请日:2003-09-03
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/243
Abstract: 提供了一种用于有机薄膜形成设备的加热坩埚,其没有由于有机物质在喷嘴附近的盖子的内壁上再结晶造成的盖子的喷嘴堵塞,并且可以准确、容易地测量并控制加热坩埚内的温度。加热坩埚包括容纳有机物质的主体,置于主体上的盖子,盖子由绝缘材料形成并且具有一个喷嘴,气态有机物质经喷嘴从主体中出来,在盖子的顶面上以薄膜形形成的盖子加热器,安装的体加热器包围了主体的外壁。
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公开(公告)号:CN100402693C
公开(公告)日:2008-07-16
申请号:CN03133181.5
申请日:2003-07-23
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/243
Abstract: 一种沉积装置,包括真空腔和加热坩埚。其上将形成沉积膜的衬底安装在真空腔内。加热坩埚安装成与衬底相对以使有机化合物汽化。加热坩埚包括主体和内板。主体包括可容纳有机化合物的空间和通过其可排放汽化的有机化合物的喷嘴。内板安装在主体内,包括形成于朝向喷嘴的区域边缘周围的一个或多个开口,以便传送此汽化的有机化合物。
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