催化剂增强的化学汽相淀积设备及利用该设备的淀积方法

    公开(公告)号:CN100582301C

    公开(公告)日:2010-01-20

    申请号:CN200610078368.5

    申请日:2006-05-15

    IPC分类号: C23C16/448

    CPC分类号: C23C16/44 C23C16/46

    摘要: 本发明公开了一种催化剂增强的化学汽相淀积(CECVD)设备和淀积方法,其中为防止催化剂丝因热变形导致松垂而向催化剂丝施加张力,并且为防止产生异物而使用辅助气体。该CECVD设备可构造为具有:处理腔、将处理气体导入处理腔的喷头、和提供在处理腔中并分解从喷头导入的处理气体的可拉伸的催化剂丝结构,由催化剂丝结构分解的的气体淀积于基片上,从而使张力施加到催化剂丝以便防止催化剂丝因热变形导致松垂,且使用辅助气体从而防止产生异物,因此消除了基片温度不均匀的发生和膜生长不均匀的发生,并随之提高了催化剂丝的耐久性。

    蒸镀装置及蒸镀方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101476116B

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200910002040.9

    申请日:2006-01-20

    IPC分类号: C23C16/48 H01L21/31

    摘要: 本发明公开了蒸镀装置和蒸镀方法。该蒸镀装置中,分解所需要的能量相对较高的气体利用等离子体分解方式和加热体方式进行分解,分解所需要的能量相对较低的气体利用加热体方式进行分解,由此在基板上形成蒸镀物。在利用现有的ICP-CVD装置或PECVD等的等离子体装置形成绝缘膜时,存在源气体难以完全分解而使蒸镀物的特性变差,源气体的使用效率差的缺陷,本发明为了克服该缺陷而涉及等离子体或/及加热体方式的蒸镀装置及利用该蒸镀装置的蒸镀方法。

    催化剂增强化学气相沉积设备

    公开(公告)号:CN1861840B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200610080157.5

    申请日:2006-05-09

    IPC分类号: C23C16/448

    摘要: 本发明提供了一种催化剂增强化学气相沉积(CECVD)设备,在该CECVD设备中,喷头和催化剂支撑体相互独立。该CECVD设备具有在喷头、催化剂丝和基底之间的良好的间隔,并可被净化以防止在低温下运行的部分上形成的污染。该CECVD设备包括:反应室;喷头,用于将反应气体引入到反应室中;催化剂丝,用于分解反应气体;催化剂支撑体,用于支撑催化剂丝;基底,已分解的气体沉积在其上;基底支撑体,用于支撑基底。

    制造有机发光器件的方法

    公开(公告)号:CN100517799C

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200610072619.9

    申请日:2006-04-05

    IPC分类号: H01L51/56 H01L21/31

    摘要: 本发明提供了一种利用等离子体沉积和/或热沉积制造有机发光器件的方法。通过第一自由基与第二自由基反应来形成绝缘层。第一自由基通过使第一气体穿过等离子体产生区域和加热体来形成,第二自由基通过使第二气体穿过加热体来形成。该方法通过基本分解源气体改善了所得绝缘层的特点并提高了源气体的使用效率。绝缘层可为形成在有机发光器件上的钝化层。该方法使用等离子体装置如感应耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)装置或等离子体增强化学气相沉积(PECVD)装置。

    蒸镀装置及蒸镀方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101476116A

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200910002040.9

    申请日:2006-01-20

    IPC分类号: C23C16/48 H01L21/31

    摘要: 本发明公开了蒸镀装置和蒸镀方法。该蒸镀装置中,分解所需要的能量相对较高的气体利用等离子体分解方式和加热体方式进行分解,分解所需要的能量相对较低的气体利用加热体方式进行分解,由此在基板上形成蒸镀物。在利用现有的ICP-CVD装置或PECVD等的等离子体装置形成绝缘膜时,存在源气体难以完全分解而使蒸镀物的特性变差,源气体的使用效率差的缺陷,本发明为了克服该缺陷而涉及等离子体或/及加热体方式的蒸镀装置及利用该蒸镀装置的蒸镀方法。