公开(公告)号：CN1766027A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200510092009.0

申请日：2005-08-16

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 苏在贤 ,  李东峻 ,  金男寿 ,  文成泽 ,  姜景汶 ,  安峰秀

IPC: C09K3/14 ,  C09C1/00 ,  C01F17/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/52 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/64 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 提供用于制造改进的氧化铈研磨剂的方法，该氧化铈研磨剂适合于形成用于CMP工艺的浆料组合物。在更大的次级研磨颗粒中引入的主要氧化铈颗粒的条件下，通过铈前体化合物和杂质金属化合物的混合物的热处理制造氧化铈研磨剂。杂质金属和/或次级研磨颗粒内不完全氧化的铈的存在易于减小其机械强度，由此利用这种研磨剂减小CMP工艺过程中损坏衬底表面的可能性。

公开(公告)号：CN1737885A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200510096619.8

申请日：2005-08-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 苏在贤 ,  文成泽 ,  李东峻 ,  金男寿 ,  安峰秀 ,  姜景汶

IPC: G09G1/06 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/7684 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

Abstract: 一种包括酸性水溶液，以及两性表面活性剂和乙二醇化合物的一种或两种的浆料组合物。两性表面活性剂的例子包括甜菜碱化合物和氨基酸化合物，以及氨基酸化合物的例子包括赖氨酸、脯氨酸和精氨酸。乙二醇化合物的例子包括二甘醇、乙二醇以及聚乙二醇。

公开(公告)号：CN1533420A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN02814368.X

申请日：2002-11-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金男寿 ,  林永 ,  姜景汶 ,  李东峻 ,  全相文 ,  李世哲 ,  苏在贤

IPC: C09G1/16 ,  C08L101/00

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C08L101/02 ,  C09G1/02

Abstract: 一种用于淤浆的添加剂组合物，包括含具有第一重均分子量的第一聚合酸和第一碱性材料的第一聚合酸盐；和含具有第二重均分子量的第二聚合酸和第二碱性材料的第二聚合酸盐。通过混合添加剂组合物、抛光粒子组合物和水制备淤浆组合物。当使用该淤浆组合物进行化学机械抛光时，可实现有利的抛光选择性。

公开(公告)号：CN1311009C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN02814368.X

申请日：2002-11-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金男寿 ,  林永 ,  姜景汶 ,  李东峻 ,  全相文 ,  李世哲 ,  苏在贤

IPC: C08J5/14 ,  C08L101/00 ,  C09G1/16

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C08L101/02 ,  C09G1/02

Abstract: 一种用于淤浆的添加剂组合物，包括含具有第一重均分子量的第一聚合酸和第一碱性材料的第一聚合酸盐；和含具有第二重均分子量的第二聚合酸和第二碱性材料的第二聚合酸盐。通过混合添加剂组合物、抛光粒子组合物和水制备淤浆组合物。当使用该淤浆组合物进行化学机械抛光时，可实现有利的抛光选择性。