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公开(公告)号：CN117364058A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202310258099.4
申请日：2023-03-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , H01L21/67 , H01L21/02
Abstract: 一种衬底处理装置可以包括：内管，提供竖直地延伸的工艺空间；外管，包围内管；供气管道，连接到工艺空间；以及舟皿，被配置为设置在工艺空间中。内管在第一位置处的第一内径可以与内管在第二位置处的第二内径不同，并且第二位置的高度可以高于第一位置的高度。
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