结构光投影仪和包括结构光投影仪的电子装置

    公开(公告)号:CN110824819B

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN201910047098.9

    申请日:2019-01-17

    Abstract: 公开了一种结构光投影仪,包括:光源,被配置为发射光;结构光图案掩模,被配置为接收光源发射的光,结构光图案掩模包括第一区域和第二区域,第一区域被配置为产生具有第一偏振的第一结构光,第二区域被配置为产生具有与第一偏振不同的第二偏振的第二结构光;以及偏振复用偏转器,被配置为使结构光图案掩模产生的所述第一结构光和所述第二结构光分别偏转到不同方向。

    光源装置、元投影仪及包括其的对象识别装置和电子装置

    公开(公告)号:CN109752906B

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN201811085097.5

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 本公开提供了一种元投影仪、光源装置及包括元投影仪的对象识别装置和电子装置。元投影仪包括配置为沿着光路发射光的光源阵列。光源阵列包括第一发光阵列和第二发光阵列,第一发光阵列包括配置为发射具有第一组光特性的第一光的多个第一发光元件,第二发光阵列包括配置为发射具有第二组光特性的第二光的多个第二发光元件,第二组光特性不同于第一组光特性。元投影仪包括与光路对准的元结构层。元投影仪包括具有比从光源阵列发射的光的波长更小的亚波长形状尺寸的多个纳米结构。元结构层被配置为对第一光和第二光关于彼此进行不同地调制。

    背面发光式光源阵列器件和具有其的电子装置

    公开(公告)号:CN110858702A

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201910752325.8

    申请日:2019-08-14

    Inventor: 韩承勋 罗炳勋

    Abstract: 提供了一种背面发光式光源阵列器件和电子装置。该背面发光式光源阵列器件包括:基板;分布式布拉格反射器(DBR),设置在基板的第一表面上;多个增益层,设置在DBR上,所述多个增益层彼此间隔开,并且所述多个增益层中的每个增益层被配置为分别产生光;以及纳米结构反射器,设置在所述多个增益层上与DBR相对,并且包括具有亚波长尺寸的多个纳米结构,其中,DBR的反射率小于纳米结构反射器的反射率,使得产生的光通过基板发射。

    多波长光源设备、多功能投影仪、以及电子设备

    公开(公告)号:CN110571233B

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN201811462599.5

    申请日:2018-11-30

    Abstract: 公开了一种光源设备,包括:基板;第一发光元件,形成在基板上并且包括第一反射层、被配置为发射第二波长的光的第二发光层、第一蚀刻停止层、被配置为发射第一波长的光的第一发光层所述第一波长不同于第二波长,以及第一纳米结构反射层;以及第二发光元件,形成在基板上,与第一发光元件间隔开,并且包括具有与第一反射层相同的材料和厚度的第二反射层、具有与第二发光层相同的材料和结构并且被配置为生成第二波长的光的第三发光层、具有与第一蚀刻停止层相同的材料和厚度的第二蚀刻停止层,以及第二纳米结构反射层。

    背面发光式光源阵列器件和具有其的电子装置

    公开(公告)号:CN110858702B

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN201910752325.8

    申请日:2019-08-14

    Inventor: 韩承勋 罗炳勋

    Abstract: 提供了一种背面发光式光源阵列器件和电子装置。该背面发光式光源阵列器件包括:基板;分布式布拉格反射器(DBR),设置在基板的第一表面上;多个增益层,设置在DBR上,所述多个增益层彼此间隔开,并且所述多个增益层中的每个增益层被配置为分别产生光;以及纳米结构反射器,设置在所述多个增益层上与DBR相对,并且包括具有亚波长尺寸的多个纳米结构,其中,DBR的反射率小于纳米结构反射器的反射率,使得产生的光通过基板发射。

    使用相变材料的光学调制器及包括其的三维图像获取设备

    公开(公告)号:CN107728341B

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN201710650596.3

    申请日:2017-08-02

    Inventor: 罗炳勋 朴勇和

    Abstract: 提供了光学调制器和包括光学调制器的三维图像获取设备。光学调制器可以包括含相变材料的光学调制层。第一电极可以被提供在光学调制层的第一表面上。第二电极可以被提供在光学调制层的第二表面上。第一相控制层可以布置为面对光学调制层,第一电极设置在第一相控制层与光学调制层之间。第二相控制层可以布置为面对光学调制层,第二电极设置在第二相控制层与光学调制层之间。第一相控制层和第二相控制层的每个可以具有对应于λ/4的奇数倍的光学厚度,其中λ是待被调制的入射光的目标波长。光学调制器还可以包括布置为面对光学调制层的至少一个反射层。光学调制层可以具有约10nm以下的厚度。光学调制器的工作电压可以为约10V以下。

    光源装置、元投影仪及包括其的对象识别装置和电子装置

    公开(公告)号:CN109752906A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201811085097.5

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 本公开提供了一种元投影仪、光源装置及包括元投影仪的对象识别装置和电子装置。元投影仪包括配置为沿着光路发射光的光源阵列。光源阵列包括第一发光阵列和第二发光阵列,第一发光阵列包括配置为发射具有第一组光特性的第一光的多个第一发光元件,第二发光阵列包括配置为发射具有第二组光特性的第二光的多个第二发光元件,第二组光特性不同于第一组光特性。元投影仪包括与光路对准的元结构层。元投影仪包括具有比从光源阵列发射的光的波长更小的亚波长形状尺寸的多个纳米结构。元结构层被配置为对第一光和第二光关于彼此进行不同地调制。

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