半导体结构和制造该半导体结构的方法

    公开(公告)号:CN118538707A

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202311385735.6

    申请日:2023-10-24

    Abstract: 根据实施例的半导体结构可以包括:互连结构,在基板上;层间介电层,在互连结构上;第一导电焊盘,在层间介电层内并与互连结构电耦接;第二导电焊盘,在层间介电层内并与互连结构电解耦;第一过孔插塞,在层间介电层内;以及接合结构,在层间介电层上并包括第一接合焊盘、多个第二接合焊盘、以及接合介电层,其中,第一接合焊盘电耦接到第一过孔插塞,多个第二接合焊盘中的一些第二接合焊盘在竖直方向上与第一导电焊盘间隔开,并且多个第二接合焊盘中的其他第二接合焊盘在竖直方向上与第二导电焊盘间隔开。

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