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公开(公告)号:CN103681676B
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201310384950.4
申请日:2013-08-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/105 , H01L21/8239 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供了包括用于电极的支撑件的半导体器件。每个半导体器件可以包括多个电极。此外,每个半导体器件可以包括与多个电极的侧壁连接的支撑图案。还提供了形成相关半导体器件的方法。例如,所述方法可以包括在形成多个电极之前形成支撑图案。
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公开(公告)号:CN103681676A
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201310384950.4
申请日:2013-08-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/105 , H01L21/8239 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供了包括用于电极的支撑件的半导体器件。每个半导体器件可以包括多个电极。此外,每个半导体器件可以包括与多个电极的侧壁连接的支撑图案。还提供了形成相关半导体器件的方法。例如,所述方法可以包括在形成多个电极之前形成支撑图案。
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公开(公告)号:CN107871649A
公开(公告)日:2018-04-03
申请号:CN201710890948.2
申请日:2017-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32935 , G01N29/12 , G01N29/2437 , H01J37/32568 , H01J37/3299 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H01L22/14 , H01L22/20 , H01J37/32798 , H01L21/67069 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供了一种用于监控等离子体处理腔室的监控单元、等离子体处理设备以及制造半导体装置的方法。所述用于监控等离子体处理腔室的监控单元包括:压电构件,其包括暴露于等离子体处理腔室内的表面;第一电极,其耦接到压电构件;电源单元,其耦接到第一电极并且构造为通过第一电极将电压施加到压电构件;以及控制单元,其耦接到压电构件并且构造为检测压电构件的振动频率。响应于施加到压电构件的电压,产生振动频率。
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