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公开(公告)号：CN106467961A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201610647795.4
申请日：2016-08-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01L21/02
Abstract: 提供了一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：处理室；舟皿，位于处理室中，舟皿容纳位于舟皿中的多个基底；喷嘴，向处理室供应源气体以在每个基底上形成薄膜，喷嘴包括多个T形的喷嘴管，每个T形的喷嘴管包括具有闭合端的第一管和结合到第一管的中间部的第二管。
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