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公开(公告)号：CN102925862B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201210423173.5
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种制备掺Ti的DLC涂层的方法，将预处理好的基体放入电弧与磁控溅射复合镀膜设备的转架杆上，以柱弧Ti靶作为Ti源，以平面C靶作为C的来源，平面C靶共三对，以均布的方式安置在炉体内壁上，采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Ti、C元素结合，在基体表面沉积形成掺Ti的DLC涂层。制备的该掺Ti的DLC涂层外观呈黑色，表面光滑致密，涂层的硬度28GPa，膜基结合力达到60N，涂层厚度为2.5μm，当摩擦副为Al2O3球时，涂层的干摩擦系数为0.2。表明掺Ti的DLC涂层具有良好的耐磨和减摩性能。
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公开(公告)号：CN102912298B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210421250.3
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种抗腐蚀和减摩的掺Cr的DLC涂层制备的方法，将预处理好的基体放入电弧与磁控溅射复合镀膜设备的转架杆上，以柱弧Cr靶作为Cr源，三对平面C靶作为C的来源，三对平面C靶以对靶的方式安置在炉体内壁上；采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Cr、C元素结合，在基体表面沉积形成掺Cr的DLC涂层；所制备的掺Cr的DLC涂层，表面光滑致密，涂层的硬度20GPa，膜基结合力达到80N，涂层厚度为2.0μm，有良好的抗腐蚀性能和减摩性能。
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公开(公告)号：CN102899613B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201210423182.4
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种AlTiN高速切削刀具涂层的制备方法，将高速切削刀具预处理后放入电弧离子镀膜设备中的转架杆上，以矩形Ti靶作为底层的Ti来源，矩形Ti靶安置在炉体左内壁上，通过矩形靶电弧电源的电流控制矩形Ti靶的溅射率；以圆形AlTi靶作为制备AlTiN涂层的Al、Ti元素来源，圆形AlTi靶共三个，以均布的方式安置在炉体右内壁上，通过圆形AlTi靶电弧电源的电流控制AlTi靶的溅射率；采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Al、Ti元素结合，在高速切削刀具表面沉积形成AlTiN涂层。该AlTiN涂层抗氧化温度可以达到900℃，具有优良的抗氧化性能。
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公开(公告)号：CN102925862A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210423173.5
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种制备掺Ti的DLC涂层的方法，将预处理好的基体放入电弧与磁控溅射复合镀膜设备的转架杆上，以柱弧Ti靶作为Ti源，以平面C靶作为C的来源，平面C靶共三对，以均布的方式安置在炉体内壁上，采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Ti、C元素结合，在基体表面沉积形成掺Ti的DLC涂层。制备的该掺Ti的DLC涂层外观呈黑色，表面光滑致密，涂层的硬度28GPa，膜基结合力达到60N，涂层厚度为2.5μm，当摩擦副为Al2O3球时，涂层的干摩擦系数为0.2。表明掺Ti的DLC涂层具有良好的耐磨和减摩性能。
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公开(公告)号：CN102912298A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201210421250.3
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种抗腐蚀和减摩的掺Cr的DLC涂层制备的方法，将预处理好的基体放入电弧与磁控溅射复合镀膜设备的转架杆上，以柱弧Cr靶作为Cr源，三对平面C靶作为C的来源，三对平面C靶以对靶的方式安置在炉体内壁上；采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Cr、C元素结合，在基体表面沉积形成掺Cr的DLC涂层；所制备的掺Cr的DLC涂层，表面光滑致密，涂层的硬度20GPa，膜基结合力达到80N，涂层厚度为2.0μm，有良好的抗腐蚀性能和减摩性能。
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公开(公告)号：CN102899613A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210423182.4
申请日：2012-10-29
申请人： 西安浩元涂层技术有限公司
发明人： 马胜利
摘要： 本发明公开了一种AlTiN高速切削刀具涂层的制备方法，将高速切削刀具预处理后放入电弧离子镀膜设备中的转架杆上，以矩形Ti靶作为底层的Ti来源，矩形Ti靶安置在炉体左内壁上，通过矩形靶电弧电源的电流控制矩形Ti靶的溅射率；以圆形AlTi靶作为制备AlTiN涂层的Al、Ti元素来源，圆形AlTi靶共三个，以均布的方式安置在炉体右内壁上，通过圆形AlTi靶电弧电源的电流控制AlTi靶的溅射率；采用高纯Ar作为主要离化气体，保证有效的辉光放电过程；采用高纯N2作为反应气体，使其离化并与Al、Ti元素结合，在高速切削刀具表面沉积形成AlTiN涂层。该AlTiN涂层抗氧化温度可以达到900℃，具有优良的抗氧化性能。
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