用于制造涂覆有涂层的金属带的方法

    公开(公告)号:CN111321431B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN201911283872.2

    申请日:2019-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制造涂覆有涂层(B)的金属带(M)的方法,其中涂层包含铬金属和氧化铬,并且通过作为阴极连接的金属带在电解持续时间内与包含三价铬化合物的电解溶液(E)接触,涂层从电解溶液中以电解的方式施加到金属带上。当金属带以预设的带运行速度(v)沿带运行方向接连地被引导经过在带运行方向上依次设置的多个电解槽时,有效地沉积具有高的氧化铬份额的涂层,其中至少在沿带运行方向上观察的最后电解槽(1c;1h)中或者在后组电解槽(1g、1h)中,电解溶液的在电解槽体积上取平均的温度为最高40℃,并且在最后电解槽(1c)中或后组电解槽(1g、1h)中,金属带与电解溶液电解作用接触的电解持续时间小于2.0秒。

    用于制造涂覆有涂层的金属带的方法

    公开(公告)号:CN111321432B

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN201911284086.4

    申请日:2019-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制造涂覆有涂层(B)的金属带(M)的方法,其中涂层包含铬金属和氧化铬,并且通过作为阴极连接的金属带与包含三价铬化合物的电解溶液(E)接触,涂层从电解溶液中以电解的方式施加到金属带上。当金属带以预设的带运行速度(v)沿带运行方向接连地被引导经过在带运行方向上依次设置的多个电解槽时,有效地沉积具有高的氧化铬份额的涂层,其中在沿带运行方向观察的第一电解槽中或前组电解槽中存在低电流密度(j1),在沿带运行方向的随后的第二电解槽中或中间组电解槽中存在中等电流密度(j2),并且在沿带运行方向观察的最后电解槽或后组电解槽中存在高电流密度(j3),其中j1≤j2

    用于制造涂覆有涂层的金属带的方法

    公开(公告)号:CN111321432A

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201911284086.4

    申请日:2019-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制造涂覆有涂层(B)的金属带(M)的方法,其中涂层包含铬金属和氧化铬,并且通过作为阴极连接的金属带与包含三价铬化合物的电解溶液(E)接触,涂层从电解溶液中以电解的方式施加到金属带上。当金属带以预设的带运行速度(v)沿带运行方向接连地被引导经过在带运行方向上依次设置的多个电解槽时,有效地沉积具有高的氧化铬份额的涂层,其中在沿带运行方向观察的第一电解槽中或前组电解槽中存在低电流密度(j1),在沿带运行方向的随后的第二电解槽中或中间组电解槽中存在中等电流密度(j2),并且在沿带运行方向观察的最后电解槽或后组电解槽中存在高电流密度(j3),其中j1≤j2

    用于检查钢带的方法和设备

    公开(公告)号:CN108226173A

    公开(公告)日:2018-06-29

    申请号:CN201711338262.9

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 本发明涉及用于检查钢带的方法和设备。在该方法中,照射并由至少一个摄像机扫描钢带的至少一个表面,以获得表示被扫描的表面的二维图像的图像数据组,并且其中将图像数据组输送给图像处理装置,并且图像处理装置对图像数据组进行缺陷检测,并在检测到表面缺陷时执行对检测到的表面缺陷的分类,在该方法中提出,将钢带磁化并利用至少一个对磁场敏感的漏磁通量传感器探测在带的表面上的漏磁通量,以检测钢带内部中的不均匀性,其中漏磁通量传感器产生漏磁通量数据组,其被输送给图像处理装置并且由图像处理装置进行缺陷检测,以确定钢带的内部中的不均匀性。该设备用于执行该方法。

    用于制造涂覆有涂层的金属带的方法

    公开(公告)号:CN111321431A

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201911283872.2

    申请日:2019-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制造涂覆有涂层(B)的金属带(M)的方法,其中涂层包含铬金属和氧化铬,并且通过作为阴极连接的金属带在电解持续时间内与包含三价铬化合物的电解溶液(E)接触,涂层从电解溶液中以电解的方式施加到金属带上。当金属带以预设的带运行速度(v)沿带运行方向接连地被引导经过在带运行方向上依次设置的多个电解槽时,有效地沉积具有高的氧化铬份额的涂层,其中至少在沿带运行方向上观察的最后电解槽(1c;1h)中或者在后组电解槽(1g、1h)中,电解溶液的在电解槽体积上取平均的温度为最高40℃,并且在最后电解槽(1c)中或后组电解槽(1g、1h)中,金属带与电解溶液电解作用接触的电解持续时间小于2.0秒。

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