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公开(公告)号：CN101916052A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010251766.9
申请日：2004-05-24
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： H01L21/02071 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/32138
摘要： 公开了一种不含链烷醇胺的组合物，所述组合物包含：a)至少一种胺，它包括氨基烷基吗啉；b)羟胺；c)有机稀释剂；d)水；e)腐蚀抑制剂；所述组合物的pH大于7。还公开了用所述组合物从基片上除去光刻胶、光刻胶副产物和残余物，以及蚀刻残余物的方法。
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公开(公告)号：CN1813223B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200480018439.1
申请日：2004-05-24
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
CPC分类号： H01L21/02071 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/32138
摘要： 包含某些胺和/或季铵化合物、羟胺、缓蚀剂、有机稀释剂和任选的水的组合物，能够从基片上除去光刻胶、光刻胶副产物和残余物，以及蚀刻残余物。
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公开(公告)号：CN1688930A
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：CN03823216.2
申请日：2003-09-26
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
发明人： M·埃格伯
CPC分类号： H01L21/02063 , C23G1/14 , G03F7/425 , H01L21/02071 , H01L21/31133
摘要： 包含某些有机溶剂和氟源的组合物能用于除去光致抗蚀剂和蚀刻残留物。
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公开(公告)号：CN100367114C
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN03823216.2
申请日：2003-09-26
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
发明人： M·埃格伯
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/311
CPC分类号： H01L21/02063 , C23G1/14 , G03F7/425 , H01L21/02071 , H01L21/31133
摘要： 本发明涉及一种除去光致抗蚀剂和蚀刻残留物的组合物，它包含：a)至少50重量%-80重量%的溶剂，所述溶剂选自四氢糠醇、双丙酮醇和1，4-环己烷二甲醇；b)0.005-0.8重量%的氟源；c)15.72重量%-49.9重量%的水；d)0-20重量%的腐蚀抑制剂。该组合物能用于除去光致抗蚀剂和蚀刻残留物。
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公开(公告)号：CN1278975C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03816222.9
申请日：2003-07-10
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
CPC分类号： H01L21/02063 , C09K13/00 , H01L21/02071
摘要： 包含水、有机二羧酸、缓冲剂和氟源物质或可还包含可与水混溶的有机溶剂的组合物，它们能清除蚀刻残留物。
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公开(公告)号：CN1813223A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480018439.1
申请日：2004-05-24
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
CPC分类号： H01L21/02071 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/32138
摘要： 包含某些胺和/或季铵化合物、羟胺、缓蚀剂、有机稀释剂和任选的水的组合物，能够从基片上除去光刻胶、光刻胶副产物和残余物，以及蚀刻残余物。
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公开(公告)号：CN1665755A
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN03816222.9
申请日：2003-07-10
申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
CPC分类号： H01L21/02063 , C09K13/00 , H01L21/02071
摘要： 包含水、有机二羧酸、缓冲剂和氟源物质或可还包含可与水混溶的有机溶剂的组合物，它们能清除蚀刻残留物。
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