批次型衬底处理设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111883409B

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202010355257.4

    申请日:2020-04-29

    发明人: 赵政熙

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种批次型衬底处理设备。批次型衬底处理设备包含:筒,配置成提供处理空间;隔离壁,配置成提供其中产生等离子的放电空间;气体供应管,配置成将工艺气体供应到放电空间;以及多个电极,配置成在放电空间中产生等离子。多个电极中的至少一个安置于隔离壁外部,且多个电极中的至少一个安置于隔离壁内部。

    批次型衬底处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116705584A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202310195693.3

    申请日:2023-03-03

    发明人: 赵政熙 金苍乭

    IPC分类号: H01J37/32 H01L21/67

    摘要: 本发明提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、多个电极及电极保护部。所述多个电极包括:第一电力供应电极与第二电力供应电极,彼此间隔开;以及第一接地电极及第二接地电极,在第一电力供应电极与第二电力供应电极之间被设置成分别与第一电力供应电极及第二电力供应电极对应。电极保护部包括:多个第一电极保护管,分别具有其中插置有第一电力供应电极及第二电力供应电极的内空间;多个第二电极保护管,分别具有其中插置有第一接地电极及第二接地电极的内空间;以及多个桥接部,被配置成分别将彼此面对的第一电极保护管的上部端部与第二电极保护管的上部端部连接到彼此。

    分批型衬底处理设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114496698A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111241951.4

    申请日:2021-10-25

    发明人: 赵政熙 金苍乭

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种将在排放空间中分解的处理气体供应到处理空间中的分批型衬底处理设备,所述排放空间不同于处理空间。分批型衬底处理设备包含:反应管,配置成提供处理空间;等离子体形成部件,具有排放空间,所述排放空间通过分隔壁与处理空间区分开,且通过沿反应管的纵向方向延伸的多个电极在排放空间中产生等离子体。多个电极包含彼此间隔开的多个电源电极及设置于多个电源电极之间的多个接地电极。

    基板传送装置及基板传送装置异常判断方法

    公开(公告)号:CN118974906A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202380031336.1

    申请日:2023-03-28

    摘要: 本发明涉及一种检测多个末端执行器异常的基板传送装置以及基板传送装置异常判断方法。基板传送装置包括:多个末端执行器在第一方向上延伸并在与第一方向交叉的第二方向上多阶段排列以分别支撑基板;间隔调节单元,其被配置为调整多个末端执行器之间的间隔;以及异常检测单元,其被配置为检测多个末端执行器中每个的异常,其中多个末端执行器可包括:位置固定的参考末端执行器;以及可变末端执行器,其相对于参考末端执行器在与参考末端执行器的距离上被调整。

    批次型衬底处理设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111883410B

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202010357457.3

    申请日:2020-04-29

    发明人: 赵政熙

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种批次型衬底处理设备。所述批次型衬底处理设备包括:筒,被配置成提供处理空间;分隔壁,被配置成提供在其中产生等离子体的放电空间;气体供应管,被配置成向所述放电空间供应工艺气体;以及多个电极,设置在所述筒外,以在所述放电空间中产生所述等离子体。所述筒具有从所述筒的最外圆周表面向内凹陷的多个凹槽,且所述多个电极分别容置在所述多个凹槽中。

    衬底处理系统
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110444500B

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN201910260988.8

    申请日:2019-04-02

    IPC分类号: H01L21/677 H01L21/67

    摘要: 本公开提供一种衬底处理系统,包含:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟,其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。

    衬底处理设备和衬底处理方法

    公开(公告)号:CN110379730B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN201910226229.X

    申请日:2019-03-25

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本公开涉及一种衬底处理设备和衬底处理方法,且更确切地说涉及一种配置成在衬底上沉积均一薄膜的衬底处理设备和衬底处理方法。根据示范性实施例的衬底处理设备包含:反应管,具有形成于其中的内部空间;衬底舟,配置成装载多个载台中的多个衬底,且定位于内部空间中以分隔成在其中分别处理多个衬底的多个处理空间;工艺气体供应部件,配置成将工艺气体供应到多个处理空间;以及稀释气体供应部件,配置成供应用于稀释多个处理空间内的工艺气体的稀释气体。本公开可提供一种可使得分别沉积于衬底舟上所装载的多个衬底上的薄膜的厚度均一的衬底处理设备和衬底处理方法。

    衬底处理系统
    8.
    发明公开
    衬底处理系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN110444500A

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201910260988.8

    申请日:2019-04-02

    IPC分类号: H01L21/677 H01L21/67

    摘要: 本公开提供一种衬底处理系统,包含:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟,其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。

    批次型等离子体衬底处理装置

    公开(公告)号:CN109659214A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201811062609.6

    申请日:2018-09-12

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种将在单独的空间中分解的工艺气体供应到处理空间中的批次型衬底处理装置。所述衬底处理装置包括:管材;衬底支撑部件;气体供应管道;排气部件;以及等离子体反应部件,其中所述等离子体反应部件可包括多个电源供应电极部件及接地电极部件。

    批次型衬底处理设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111883409A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN202010355257.4

    申请日:2020-04-29

    发明人: 赵政熙

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种批次型衬底处理设备。批次型衬底处理设备包含:筒,配置成提供处理空间;隔离壁,配置成提供其中产生等离子的放电空间;气体供应管,配置成将工艺气体供应到放电空间;以及多个电极,配置成在放电空间中产生等离子。多个电极中的至少一个安置于隔离壁外部,且多个电极中的至少一个安置于隔离壁内部。