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公开(公告)号：CN114279303B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202111632964.4
申请日：2021-12-28
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
IPC分类号： G01B5/245
摘要： 本发明公开了一种双面微柱面透镜阵列垂直度的检测装置和方法，该装置包括双面微柱面透镜阵列(101)，第一小球(102)，第二小球(103)，绕Z轴的旋转台(105)，沿X轴和Y轴的二维平移台(104)，Z轴方向高度接触测量设备(106)和计算机(107)。第一小球(102)，第二小球(103)为两个相同的小球，通过两个小球的定位和对测试数据的拟合处理，实现精确调整双面微柱面透镜阵列与运动轴的关系。通过对上下柱面轮廓数据的测试和数据处理，计算出两个柱面的母线方向，进而实现对双面微柱面透镜阵列垂直度的精确检测。
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公开(公告)号：CN114551297A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210111785.4
申请日：2022-01-29
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种刻蚀机基片冷却固定装置，包括底盘、基片和可移动固定脚；底盘包括夹持区和下沉冷却区，夹持区保证基片表面与底盘上部保持平行；下沉冷却区底部均匀分布着多个小孔，在刻蚀工作中冷却气体能够在底部封闭区域内通过小孔持续循环带走上部基片产生的多余热量；可移动固定脚由一个L形状的压块和固定螺钉组成，压块L型边缘与基片紧密贴合起到固定基片的作用，固定螺钉位置可调节，配合底盘预设螺孔可固定不同形状的基片；本发明利用气孔导入流动气体使基片反应环境温度稳定，而可移动固定脚能够结合底盘不同定位孔固定基片，能够适应各种形状和尺寸的基片，解决了现有基片固定装置无法有效冷却、固定种类单一的问题。
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公开(公告)号：CN114279690A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111608576.2
申请日：2021-12-24
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
摘要： 本发明涉及一种用于微复眼透镜阵列元件测量的傅里叶变换物镜，其光轴方向包括孔径光阑、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、后焦面。其中孔径光阑位置处放置被测微复眼透镜阵列元件，第一透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜具有正光焦度，第二透镜、第六透镜具有负光焦度，所述傅里叶变换物镜傅里叶透镜具有正光焦度，将孔径光阑的出射光聚焦于后焦面，后焦面为探测器的光敏面，孔径光阑位于所述傅里叶变换物镜的前焦面，后焦面上所有视场点的主光线与光轴平行，形成像方远心光路，后焦面为孔径光阑的傅里叶频谱面，满足正弦条件。
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公开(公告)号：CN113945364A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111240664.1
申请日：2021-10-25
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
IPC分类号： G01M11/02
摘要： 本发明公开了一种衍射光学元件衍射效率测量装置和方法，该方法用于衍射光学元件衍射效率测量。采用分光法测量衍射光学元件衍射效率，可以有效减小光源能量不稳定对测量结果的影响，测量过程中，利用小孔光阑挡住高衍射级光斑，可以有效提高测量准确性，测量方法简单，高效。
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公开(公告)号：CN113945276A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111242209.5
申请日：2021-10-25
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
摘要： 本发明公开了一种探测器线性度标定方法，该方法用于探测器线性度标定中。利用多个透过率已知且相同的衰减片做光源能量衰减器，通过插入不同数量的衰减片，获得不同的衰减倍率，在不同衰减倍率下采集探测器的数值，绘制衰减倍率和探测器数值曲线，再进行最小二乘法拟合，得到探测器线性度。
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公开(公告)号：CN114252243B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111507267.6
申请日：2021-12-10
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
摘要： 本发明公开了一种微柱面透镜阵列的检测装置和方法，该装置包括微柱面透镜阵列(101)，工装(102)，绕Z轴的旋转台(201)，沿X轴和Y轴的二维平移台(202)，Z轴方向高度接触测量设备(203)和计算机(204)。通过工装(102)特征的测试，准确快速调整微柱面透镜阵列(101)的位置，微柱面透镜阵列(101)的测试能精确沿母线的垂直方向。通过对微柱面透镜阵列(101)测试数据的多单元联合处理，能快速准确获得微柱面透镜阵列(101)的曲率半径、周期和面形误差。
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公开(公告)号：CN114297975B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202111616388.4
申请日：2021-12-27
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
IPC分类号： G06F30/392
摘要： 本发明公开了一种制作曲面浮雕轮廓器件的掩模版图案优化设计方法，根据曝光光强分布与光刻胶不同成分的吸收系数、光敏系数等参数的关系，建立光刻胶的光敏混合物(PAC)浓度分布对曝光光强的响应模型；根据光刻胶完全曝光的显影速率、光刻胶未曝光的显影速率、光敏物质相对浓度的阈值、显影选择常数等参数建立光刻胶显影模型；通过分层计算光刻胶各点PAC浓度分布和显影速率分布，再结合采用微小单元格去除法，建立起从曝光量到实际显影图形轮廓的仿真流程；根据掩模移动曝光原理建立二元掩模开口函数与曝光量的关系；再通过迭代优化算法，优化设计得到曲面浮雕轮廓器件制作所需的掩模版图案。
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公开(公告)号：CN114996975A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210844329.0
申请日：2022-07-19
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
摘要： 本发明涉及一种基于超精密车削的光学曲面表面形貌仿真方法，属于超精密加工技术领域。基于已规划超精密刀具轨迹模型，对仿真区域进行网格点划分，计算网格点在径向截面上所有的刀具轨迹刀触点，并进行刀具半径补偿，得到对应刀触点的刀位点，根据网格点和已规划刀位点的几何位置关系计算出仿真区域内所有网格点的最小残留高度坐标数据，实现了整个仿真区域内光学曲面的表面形貌仿真，将表面形貌仿真数据去除光学曲面理论设计的形状成分可实现对光学曲面的加工面形误差分布情况的预测。本发明考虑了已规划刀具轨迹的刀具半径补偿对形貌仿真的影响，可以在车削实验前预测实际加工工件的表面形貌，无需进行多次昂贵费时的试错实验。
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公开(公告)号：CN114777721A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202210482342.6
申请日：2022-05-05
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
摘要： 本发明公开了一种高精度光学元件面形检测支撑结构，属于深紫外投影光刻物镜结构设计领域，为保证高精度光学元件面形检测精度，需解决其支撑问题，本发明结构包括镜框和整体式弹片，所述整体式弹片和镜框之间通过12个沿镜框内环均匀分布的螺钉实现连接，所述整体式弹片为一个整体的圆环片上带有若干个相同的伸向圆心且均匀分布的支撑片，所述镜框具有支撑台，支撑台宽度与整体式弹片的圆环片下表面宽度相适应，所述整体式弹片与光学元件之间点接触。由于支撑片具有一定的轴向柔度，支撑光学元件时支撑片会产生一定的轴向变形，因此即使各支撑片高度方向上存在一定的尺寸误差，光学元件的自重也能相对均匀的作用在各个支撑片上，从而实现光刻物镜中光学元件的高精度支撑。
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公开(公告)号：CN114297975A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111616388.4
申请日：2021-12-27
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 成都同力精密光电仪器制造有限公司
IPC分类号： G06F30/392
摘要： 本发明公开了一种制作曲面浮雕轮廓器件的掩模版图案优化设计方法，根据曝光光强分布与光刻胶不同成分的吸收系数、光敏系数等参数的关系，建立光刻胶的光敏混合物(PAC)浓度分布对曝光光强的响应模型；根据光刻胶完全曝光的显影速率、光刻胶未曝光的显影速率、光敏物质相对浓度的阈值、显影选择常数等参数建立光刻胶显影模型；通过分层计算光刻胶各点PAC浓度分布和显影速率分布，再结合采用微小单元格去除法，建立起从曝光量到实际显影图形轮廓的仿真流程；根据掩模移动曝光原理建立二元掩模开口函数与曝光量的关系；再通过迭代优化算法，优化设计得到曲面浮雕轮廓器件制作所需的掩模版图案。
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