铜-石墨烯电镀液、铜-石墨烯复合箔及其制备方法

    公开(公告)号:CN115012007B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202210853853.4

    申请日:2022-07-12

    IPC分类号: C25D1/04 C25D3/38

    摘要: 本发明涉及复合箔技术领域,公开了铜‑石墨烯电镀液、铜‑石墨烯复合箔及其制备方法。所述电镀液包括硫酸铜、石墨烯、添加剂A、添加剂B、阳离子表面活性剂和含Cl‑电解质;所述添加剂A选自2‑巯基‑5‑苯并咪唑磺酸钠、2‑甲氧基‑2‑氧代乙磺酸钠和4‑硝基‑N‑甲基苯磺酸酰胺中一种或多种;所述添加剂B选自聚二硫二丙烷磺酸钠、N,N‑二甲基‑二硫代羰基丙烷磺酸钠和3‑硫‑异硫脲丙磺酸钠中一种或多种。将所述的电镀液在≥30A/dm2的电流密度下进行电沉积,得到铜‑石墨烯复合箔。所述铜‑石墨烯复合箔的厚度小于4μm,高温力学性能稳定。本发明将石墨烯作为增强相引入铜箔内部,在保证铜箔低粗糙值的前提下制备高抗拉强度铜‑石墨烯复合箔。

    RTF铜箔制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116180163A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202211705408.X

    申请日:2022-12-29

    IPC分类号: C25D1/04

    摘要: 本发明涉及一种RTF铜箔制造方法,该RTF铜箔制造方法包括电解原箔步骤和表面处理步骤,所述表面处理步骤包括粗化工序、固化工序以及硅烷处理工序,所述粗化工序包括第一粗化工序,所述第一粗化工序将经电解原箔工序得到的铜箔在电流密度10~20A/dm2的工艺参数条件下在含H2SO4:160~220g/L、Cu2+:5~15g/L的粗化液中电镀粗化处理,所述粗化液中还添加WO42‑:170~250mg/L、C2H6O2·x:300~400mg/L、C6H5O73‑:75~145mg/L、MoO42‑:83~166mg/L和Cl‑:20~40mg/L,能够在保证表面粗糙度值较低的情况下,保证RTF铜箔与基体树脂材料的结合力,从而提高与基板结合的剥离强度。

    一种可切换锂电箔标箔的生箔机
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113046791A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202011564295.7

    申请日:2020-12-25

    IPC分类号: C25D1/04 F26B5/14 F26B21/00

    摘要: 本发明公开了一种可切换锂电箔标箔的生箔机,包括阳极槽、阳极板、阴极辊、收卷辊、机架,包括设置在所述收卷辊下方的用于除去铜箔表面水分的热风管;设置在所述热风管下方且沿着所述阴极辊外沿设置有能够调控与阴极辊间压力的挤水装置,所述挤水装置设置在所述机架上;设置在所述机架上且位于所述挤水装置下方用于向铜箔喷水的水喷淋管;设置在所述水喷淋管下方且沿着所述阴极辊外沿设置有能够调控与阴极辊间压力的挤酸装置,所述挤酸装置设置在所述机架上;设置在所述机架上且位于所述挤酸装置下方用于承接挤酸装置排出液体的接液刮液盘;设置在所述机架上且位于所述接水刮水盘下方用于向铜箔喷酸的酸喷淋管。

    一种超薄电解铜箔高效生产方法

    公开(公告)号:CN111607810A

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN202010673743.0

    申请日:2020-07-14

    IPC分类号: C25D1/04

    摘要: 一种超薄电解铜箔高效生产方法,属于电解铜箔技术领域,首先制备铜溶液,在铜溶液中加入添加剂,在阳极槽电解,得到电解铜箔粗品,电解铜箔粗品再通过高低温循环增强处理得到超薄电解铜箔,本发明在溶铜的过程中采用密封的溶铜罐,在加料时将铜料先设置在预加腔内,然后在预加腔内通入纯净的氧气,最后再打开预加腔,使铜料和氧气同时进入溶铜罐内,提高了溶铜罐内空气的纯度,降低了空气杂质,进而使溶铜的速度加快,提高电解液的纯度和沉积铜箔粗品的品质;采用高低温循环处理电解铜箔粗品可有效增强铜箔,改善电解铜箔的力学性能。