一种图像感知哈希方法、系统、设备及信息数据处理终端

    公开(公告)号:CN113763225B

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202110534856.7

    申请日:2021-05-17

    IPC分类号: G06T1/00

    摘要: 本发明属于图像处理技术领域,公开了一种图像感知哈希方法、系统、设备及信息数据处理终端,所述图像感知哈希方法包括:将尺寸大小为M×N的图像缩小为256×256的小图像;将得到的小图像灰度化处理;通过离散余弦变换DCT算法对灰度化的图片进行压缩处理,得到DCT的系数矩阵后缩小DCT;将缩小DCT后的92×92矩阵分割成若干个4×4的小块,进而生成最大量化器和最小量化器以及位图图像;根据生成的最大量化器和最小量化器以及位图图像构建颜色直方图特征CHF和位模式特征BPF;将CHF和BPF特征合并,并二值化得到图片指纹。本发明通过对比图像指纹有效地防止恶意用户盗取他人图片进行确权,在图像版权保护应用中具有重要的使用价值。

    基于概率计算和查找表分析的门级单粒子软错误分析方法

    公开(公告)号:CN118821682A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410794597.5

    申请日:2024-06-19

    摘要: 本发明涉及一种基于概率计算和查找表分析的门级单粒子软错误分析方法,包括以下步骤:接收文件;基于分析待测设计工艺库文件与待测设计网表文件,提取待测设计中寄存器及其前级逻辑锥,分析SET作用到标准单元中的逻辑门后的输出响应并建立查找表;结合多层次屏蔽以及采用概率计算方法,评估待测设计中不同寄存器前级逻辑锥对SET故障的屏蔽效果及逻辑锥上SET导致寄存器生成位翻转的概率;通过门级注错仿真技术,获取寄存器因SET或SEU导致的错误翻转对整个系统软错误的贡献,形成模块级的统计数据,评估SET和SEU对系统软错误的影响。本发明综合分析SEU和SET的影响,实现单粒子软错误分析方法性能的极大提升。

    一种数字刻蚀凹槽栅增强型GaN HEMT器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN118738116A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202411108868.3

    申请日:2024-08-13

    IPC分类号: H01L29/778 H01L21/335

    摘要: 本发明公开了一种数字刻蚀凹槽栅增强型GaN HEMT器件及其制备方法,该器件自下而上包括依次叠加设置的衬底层、III‑N复合缓冲层、GaN沟道层、III‑N势垒层;III‑N势垒层上设有源电极、漏电极以及自其表面向内部延伸的凹槽,凹槽内覆盖有栅电极;GaN沟道层和III‑N势垒层形成异质结,GaN沟道层和III‑N势垒层形成的异质结界面且靠近GaN沟道层的一侧形成二维电子气沟道;源电极和漏电极均与二维电子气沟道形成欧姆接触,栅电极与二维电子气沟道形成肖特基接触;本发明通过采用槽栅结构,增大栅极与沟道的接触面积,增强栅极对二维电子气沟通的控制能力;通过采用数字刻蚀工艺成功制得表面平整度好的凹槽结构,实现对刻蚀深度的有效调控,避免刻蚀损伤,最终提高器件的稳定性。

    基于广义类平衡损失的图像分割方法

    公开(公告)号:CN118735942A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410767592.3

    申请日:2024-06-14

    摘要: 本发明公开了基于广义类平衡损失的图像分割方法,包括以下步骤;步骤1:将图像输入到分割网络中;通过分割网络中的编码器提取图像特征,并通过解码器将所述图像特征恢复到原始分辨率,生成预测的分割图像;步骤2:将真实的分割图像作为真实标签,计算所述预测的分割图像和真实的分割图像之间的广义类平衡损失;步骤3:利用所述广义类平衡损失进行反向传播,并更新网络参数。本发明利用不同的调节因子,有效平衡了不同类别间的损失贡献。通过精确地分割小样本区域,进一步提升了整体的图像分割精度,实现了在保证总体性能的同时,特别增强了模型对不均衡数据分布的处理能力。

    一种基于插指型的垂直隧穿场效应晶体管的生物传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118688281A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410738966.9

    申请日:2024-06-07

    IPC分类号: G01N27/414

    摘要: 一种基于插指型的垂直隧穿场效应晶体管的生物传感器及其制备方法,传感器包括倒T状的沟道层,沟道层垂直区域顶端设置有源极,源极与沟道层接触处为插指结构,沟道层的水平区域两端均设置有漏极,沟道层的垂直区域两侧及水平区域顶面均布设有栅极介质层,栅极介质层上布设有第一栅极,第一栅极的顶端设置有第二栅极,第二栅极与沟道层及源极形成生物分子探测腔;制备方法:刻蚀沟道层形成倒T状,在其水平区域两端进行离子注入,经过多次淀积刻蚀,得到顶端为手指状的垂直区域,并嵌入锑化镓,将氧化铪沉积,第一、二栅极的金属材料沉积到氧化铪上,进行抛光,对氧化铪进行干法刻蚀,得到最终的结构;具有功耗小、识别时间短及灵敏度高的特点。