一种不伤不锈钢的镍铜钛清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN117230453A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311152532.2

    申请日:2023-09-07

    IPC分类号: C23G1/08

    摘要: 本发明涉及表面处理技术领域,公开一种不伤不锈钢的镍铜钛清洗剂及其制备方法,该清洗剂包括以下组分:氢氟酸0.5‑2wt%;甘氨酸8‑15wt%;醋酸5‑10wt%;氨基磺酸1‑3wt%;硝酸钾2‑5wt%;不锈钢保护剂0.5‑2wt%;金属络合剂0.2‑0.5wt%;余量为纯水。本发明的镍铜钛清洗剂是环保型产品,呈酸性,透明液体。本发明的镍铜钛清洗剂在常温条件下对不锈钢表面各种电镀层有优良的去除能力。清洗彻底,时间较短,无残留,对不锈钢材质无腐蚀,易冲洗,操作简单、方便,安全可靠。清洗后不锈钢表面亮度好,光泽度强。

    一种对光刻胶无损伤的草酸系ITO蚀刻液

    公开(公告)号:CN114790392B

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202210442168.2

    申请日:2022-04-25

    发明人: 王润杰 李华平

    IPC分类号: C09K13/06

    摘要: 本发明涉及蚀刻液技术领域,公开一种对光刻胶无损伤的草酸系ITO蚀刻液,包括以下组分:3.2~3.6wt%的草酸;400~600ppm的蚀刻液添加剂,余量为超纯水;其中,蚀刻液添加剂包括质量百分比的以下成分:40%的正己酸、正戊酸、正庚酸和正辛酸中的任一种;40%的氨水;20%的超纯水,所述氨水是28‑30wt%的氨水。本发明的草酸系ITO蚀刻液添加了采用正己酸、正戊酸、正庚酸和正辛酸中的任一种与氨水形成的酸铵复配物,对光刻胶无损伤,同时低泡无残渣,无停产或批量不良风险。

    一种铜蚀刻液及其制备方法

    公开(公告)号:CN117144366A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202311416184.5

    申请日:2023-10-30

    IPC分类号: C23F1/18

    摘要: 本发明提出了一种铜蚀刻液及其制备方法,主要由以下三个组分组成:0.1‑30wt%的铜化合物,0.01‑30wt%的砷化合物,余量为含水的含铜层。可选成分还包括0.1‑30wt%的碘化物离子,用于提高蚀刻速度,蚀刻液的酸碱度可通过添加pH调节剂来调整,该蚀刻液可以实现高效且分辨率更高的铜蚀刻过程,可广泛应用于印制电路板、半导体封装基板等的高分辨率电路图案形成,相比现有技术,该蚀刻液可以获得更高的蚀刻速度,并能够抑制侧向蚀刻。

    一种对铜无损伤的氧化铜蚀刻液及其制备方法

    公开(公告)号:CN116121757A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202211435558.3

    申请日:2022-11-16

    IPC分类号: C23F1/34

    摘要: 本发明涉及蚀刻液技术领域,公开一种对铜无损伤的氧化铜蚀刻液,包括按质量百分比计的以下组分:4%‑10%双氧水;1%‑5%磷酸铵;0.1%‑1%苯并三氮唑;0.1%‑1.0%磷酸氢二钾;0.1%‑1.0%磷酸二氢钾;0.25%‑5%甘氨酸;0.1%‑5%TMAH;余量为纯水。本发明的氧化铜蚀刻液既可以有效的去除氧化铜,又对铜无损伤,蚀刻速度均匀。本发明通过在配方中添加了由磷酸氢二甲和磷酸二氢钾组合成pH缓冲液,可以有效维持氧化铜蚀刻液pH的稳定。

    一种TFT-LCD铝蚀刻液
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110952095A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201911157342.3

    申请日:2019-11-22

    IPC分类号: C23F1/20

    摘要: 本发明公开了一种TFT-LCD铝蚀刻液配方,其特征在于,按照重量份数计算,包括:无机酸60-70份,无极强酸5-10份,调节剂10-15份,缓蚀剂0.1-1份,络合剂0.1-1份。本发明的有益效果:该蚀刻液增加了新型酰胺类络合剂络合剂,蚀刻时表面的铝离子化合物有序络合,易冲离表面,不良品率由5%降至2~3%,而且增加了羟基磷酸盐缓蚀剂缓蚀剂,降低侧蚀,使侧蚀由200nm降低至120~150nm。

    一种二甘醇提纯工艺
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106946667A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201710269623.2

    申请日:2017-04-24

    发明人: 王国洪

    IPC分类号: C07C43/13 C07C41/42 C07C41/34

    摘要: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种二甘醇提纯工艺,步骤包括在二甘醇粗品中加入强碱和氯乙烷,加热搅拌反应,减压蒸馏收集150~155℃下的馏分得到。本工艺可获取乙二醇含量低、酸度极低的二甘醇,符合汽车燃料防冻液的使用需求,具有更好的市场竞争力。

    一种无水甲醇提纯工艺
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106928025A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710269621.3

    申请日:2017-04-24

    发明人: 王国洪

    IPC分类号: C07C29/76 C07C31/04

    CPC分类号: C07C29/76 C07C31/04

    摘要: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种无水甲醇提纯工艺,步骤包括过分子筛、精密过滤、除盐和质检灌装。本工艺可获取超低金属杂质含量的无水甲醇,符合精密电子行业的使用需求,相对于精馏工艺大大缩减了提取能耗成本,具有更好的市场竞争力。