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公开(公告)号:CN112505915A
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:CN202011296003.6
申请日:2020-11-18
Abstract: 本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法,该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件;通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合,实现光束位置漂移的独立调控,通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控,避免了常规光束指向系统中的解耦操作,实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束,可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号:CN111856892A
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN202010843633.4
申请日:2020-08-20
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种并行超分辨三维直写装置,该装置利用实心光斑对光刻胶的聚合效应与空心光斑的抑制聚合效应,实现超衍射极限的光刻能力;将两束不同波长的光束分别经过数字微镜器件入射到相位衍射微透镜阵列上,分别形成等间距的实心光斑阵列与空心光斑阵列,且实心光斑与空心光斑的中心相重合,利用数字微镜器件的快速开关能力,对实心光斑阵列与空心光斑阵列进行快速、特异性调控,实现复杂结构的并行超分辨三维直写。本发明为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供高速、可独立调控的实心光斑与空心光斑阵列;具有高分辨三维加工能力、复杂结构加工能力和快速加工能力;可以推动高速、超分辨、具有复杂结构刻写能力的三维直写技术的发展。
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