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公开(公告)号:CN1326791C
公开(公告)日:2007-07-18
申请号:CN200510026205.8
申请日:2005-05-26
Applicant: 上海交通大学
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 一种在硼硅玻璃表面加工微槽阵列的方法,属于先进制造技术领域。本发明采用在清洗干净的硼硅玻璃片表面溅射铬铜种子层,经过光刻,形成加工玻璃深槽阵列的掩膜窗口;将硼硅玻璃片置入腐蚀液去除窗口内的铬铜种子层,分析纯丙酮中超声去胶,采用电镀方法,首先电镀铜掩膜,然后在铜掩膜上再电镀金掩膜,腐蚀,连续刻蚀,从而在硼硅玻璃表面刻出底部光滑的微沟槽阵列。本发明简便易行,基于溅射和无掩膜微电镀工艺来制备湿法腐蚀硼硅玻璃的掩膜,从而达到减小针孔缺陷和钻蚀量的效果。
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公开(公告)号:CN1807359A
公开(公告)日:2006-07-26
申请号:CN200610023239.6
申请日:2006-01-12
Applicant: 上海交通大学
IPC: C04B41/53
Abstract: 一种微细加工技术领域的顺次多种等离子体处理碳纳米管薄膜表面形貌的方法。本发明用不同种刻蚀气体顺次对碳纳米管薄膜进行等离子体表面处理,具体为:先是一次或者多次使用化学反应性气体,对碳纳米管薄膜进行反应离子辅助等离子体处理;然后使用物理作用性气体,对碳纳米管薄膜进行等离子体表面处理。本发明能在完全无序排布的碳纳米管薄膜的基础上,使碳纳米管在薄膜表面的露出高度、密度得到调制,经过处理后的碳纳米管薄膜的表面形貌,露出高度、密度均匀,有很好的垂直取向性。本发明可极大地优化薄膜表面质量,并完全兼容于各种基于微电子加工技术,适于加工实现阵列化设计和批量生产。
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公开(公告)号:CN1770353A
公开(公告)日:2006-05-10
申请号:CN200510030262.3
申请日:2005-09-30
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种适用于场致电子器件的碳纳米管侧壁电极结构,属于传感器和电子光学器件领域。本发明包括:基片和碳纳米管侧壁电极,基片表面支撑和排列碳纳米管侧壁电极,所述的基片由一种或多种导电材料、半导体材料和绝缘材料组合而成,基层为单层或者多层,基层或者进行图形化从而形成平面或者立体结构,所述的碳纳米管侧壁电极中的碳纳米管暴露于阴极和阳极侧壁。本发明具有电极结构简单,电极间距可以在微电子制造技术的精度范围内有效控制,本发明的碳纳米管侧壁电极同时将碳纳米管应用于阳极和阴极,充分和有效地利用和发挥了碳纳米管电极的性能优势和微电子制造工艺的加工技术优势。
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公开(公告)号:CN1760705A
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN200510030975.X
申请日:2005-11-03
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种微机械光纤定位器,属于微机械和光学技术领域。本发明包括:定位槽和挠性夹,挠性夹设在定位槽的上方。所述的定位槽包括:单晶硅衬底和截面槽,截面槽设在单晶硅衬底上,所述的挠性夹包括:金属基座和挠性片,金属基座和挠性片设在同一平面内,金属基座和挠性片为一体化结构,金属基座和挠性片的底面均与单晶硅衬底的顶面贴合,金属基座设在单晶硅衬底表面上,金属基座与单晶硅衬底之间通过溅射金属时产生的粘附力固定,利用挠性片内部的弹性变形力将光纤固定在定位器中。本发明易于大批量制作,实现光纤与光纤、光纤与有源模块快速、可靠、精确定位。
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公开(公告)号:CN1715973A
公开(公告)日:2006-01-04
申请号:CN200510025940.7
申请日:2005-05-19
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种属于光学技术领域的金属基微机械光纤定位夹的制备方法,本发明在单晶硅片上开出光纤定位槽的湿法刻蚀掩膜窗口后,采用平面掩膜微电铸工艺,在光纤定位槽掩膜窗口及光纤定位槽掩膜窗口两侧的上方制备金属基微机械光纤定位夹,定位夹的底面紧贴光纤定位槽掩膜窗口和光纤定位槽掩膜所在平面,然后再采用单晶硅湿法各向异性刻蚀工艺加工出光纤定位槽,构成光纤定位夹的金属层在湿法刻蚀后保留下来,光纤定位夹下方的单晶硅被掏蚀掉,使光纤定位夹悬空,在光纤定位夹下方形成光滑、连续的光纤定位槽表面。本发明制备成本低,高性能,降低光纤耦合过程的难度,为集成光学器件的大批量生产、应用提供可行的技术途径。
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公开(公告)号:CN1131454C
公开(公告)日:2003-12-17
申请号:CN00127939.4
申请日:2000-12-19
Applicant: 上海交通大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 电磁驱动微机械可变式光衰减器主要包括:光纤定位结构、硅弹簧、铁镍薄片、挡光片和电磁驱动线圈、两部分单模光纤,单模光纤设置于定位结构上表面的V型槽中,定位结构通过下表面的定位槽装配在带有硅弹簧、铁镍薄片和挡光片的硅基片上,在此硅弹簧中心平面上电镀一层铁镍材料,电镀铁镍薄片中的部分与弹性支撑面垂直,构成挡光片,该弹性支撑面由铁镍薄片和硅弹簧构成,硅弹簧、铁镍薄片及挡光片被固定于电镀了电磁线圈和铁镍薄片的铁氧体上。本发明具有实质性特点和显著进步,所制作的电磁驱动微机械可变光衰减器具有驱动力大,挡光片位移大,而目损耗小、体积小、生产成本低,适于大批量生产。
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公开(公告)号:CN1048365C
公开(公告)日:2000-01-12
申请号:CN95111629.0
申请日:1995-05-08
Applicant: 上海交通大学
IPC: H02K29/00
Abstract: 本发明公开了一种毫米级的电磁型微电机,它由平面微型绕组线圈(定子)、磁阻传感器、磁性转子及控制电路等组成。其磁性转子(1)由稀土永磁和镍铁软磁材料复合薄膜制成,位于平面绕组线圈(5)上方,其直径与平面绕组线圈(5)的直径相同。在外形尺寸不变的前提下,该微电机的转子尺寸较大,从而转动力矩也较大。本发明毫米级电磁微电机与现有技术相比,具有输出功率大、效率高、驱动电压低等优点,在微型机器人、光通信、航空航天等高科技领域有重要实用价值。
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