磁控溅射制备减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜的方法

    公开(公告)号:CN100387750C

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200510030259.1

    申请日:2005-09-30

    Abstract: 一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜的方法。本发明采用IF-WS2靶材与IF-MoS2共溅射,通过调节二者的功率,溅射气压、偏压制备出减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜,具体工艺参数为:气压为0.1~1Pa,电源功率为100~300W,基体的偏压为-100V。由于复合薄膜中IF-WS2和IF-MoS2两种固体润滑剂,由于结构相同,晶格常数接近而发生特殊的物理化学作用,使得该减摩复合薄膜在大气和真空环境都具有低的摩擦系数,具有较高的耐潮湿、抗氧化性能和很高的耐磨性能,同时由于溅射有金属Ni中间层,使得薄膜基底有较高的结合力,可用于制造在真空和潮湿空气中交叉使用的轴承、陀螺仪和齿轮等零部件表面的减摩防护薄膜。

    一种自润滑多层复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN1727520A

    公开(公告)日:2006-02-01

    申请号:CN200510050611.8

    申请日:2005-07-07

    Abstract: 本发明公开的自润多层滑复合涂层是由厚度为10-50nm的金属Mo层与厚度为20-100nm的IF-MoS2层交替形成的多层Mo/IF-MoS2复合涂层,复合涂层的总厚度为1-5μm。该复合涂层的制备是以层状结构的MoS2粉末、纯S粉和金属Mo片为基本原料,采用磁控溅射和多弧离子镀反复交叉溅射沉积金属Mo层与IF-MoS2层而制成。它具有优良的环境稳定性、极低的摩擦系数,较高的耐磨性能,并与金属基底有良好的结合强度,可用于制造在真空和大气等环境中通用的轴承、陀螺仪和齿轮等表面的自润滑耐磨防护涂层。

    微纳米复合拉深润滑油
    83.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1563304A

    公开(公告)日:2005-01-12

    申请号:CN200410017532.2

    申请日:2004-04-08

    Abstract: 一种微纳米复合拉深润滑油,用于金属加工技术领域。本发明包含的各个组成及其所占的重量百分比为,纳米添加剂:1~30%,微米添加剂:1~30%,余量为基础油,所述的微米添加剂为聚氯乙烯粉体,所述的纳米添加剂为纳米MgO或纳米SiO2或纳米Al2O,所述的基础油为矿物油或植物油。与普通的润滑油相比,采用本发明所制备的复合润滑油,在板料成型过程中,其最大拉深力可以降低高达20%以上,摩擦系数可以降低高达26%以上,从而可以提高模具的使用寿命达20%左右,同时显著降低拉深板料的表面粗糙度,大幅度改善拉深板料的表面质量。

    制备材料芯片的k分分形掩膜方法

    公开(公告)号:CN1523443A

    公开(公告)日:2004-08-25

    申请号:CN03150906.1

    申请日:2003-09-11

    Abstract: 一种制备材料芯片的k分分形掩膜方法,属于材料芯片领域。本发明以所需制成的材料芯片中元素的最大水平数k为依据,首先将基本掩膜分成k个中心对称的区域,即k分分形,其中之一被设为通透状态,将所得掩膜依次向同一方向旋转360°/k,每旋转一次即溅射第一种元素的一个水平,旋转第一个周期后,芯片上有k个材料单元,以后每加入一种元素采用一张新掩膜,将当前芯片上材料单元区对应的掩膜区域按照基本掩膜的分形方式进行分形就得到下一张新的掩膜,即每张掩膜都有与基本掩膜相似的结构,经过n次分形叠加以k次旋转操作就得到最大水平数为k的任意n种元素组合而成的材料芯片。本发明方法不受元素的水平数限制,具有较强的实用性和普遍的适用性。

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