光学装置
    75.
    发明公开
    光学装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN118946834A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202380030265.3

    申请日:2023-03-30

    Abstract: 本申请涉及光学装置,所述光学装置顺序地包括:第一外基底、液晶单元和第二外基底,其中液晶单元包括:包括第一基础层和压敏粘合剂层的上基底;包括第二基础层和间隔物的下基底;以及在上基底与下基底之间的包含液晶化合物的液晶层,并且所述光学装置还包括:在第一外基底与液晶单元之间的第一中间层;和在第二外基底与液晶单元之间的第二中间层,其中本申请的光学装置可以适当地保持液晶单元的单元间隙,在上基底与下基底之间具有优异的粘合性,并且解决了液晶单元在与外基底粘合期间的挤压和溢流现象。

    光调制装置
    76.
    发明公开
    光调制装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115997161A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202180041664.0

    申请日:2021-07-22

    Abstract: 本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置:其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性,并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露,并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层,并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。

    基板
    78.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN111033372B

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN201880050289.4

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中,复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上,使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时,可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

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