Patent search ap:("株式会社LG化学") AND inv:"瑟极·巴利耶" Page 1

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发明公开
光调制装置审中-实审

公开(公告)号：CN115997161A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202180041664.0

申请日：2021-07-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金旼俊 , 瑟极·巴利耶 , 吴东炫 , 柳正善 , 金真弘 , 金正云 , 徐汉珉

IPC: G02F1/13363

Abstract: 本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置：其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性，并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露，并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层，并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。

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