公开(公告)号：CN303888573S

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201630001768.0

申请日：2016-01-05

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 丰村直树 ,  宫崎充

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为真空吸附垫。2.本外观设计产品如使用状态参考图所示，是贴附于对半导体晶片等衬底进行真空吸附而将其保持的吸附台的平坦吸附面上而使用的片状的真空吸附垫。3.本外观设计为针对同一产品的2项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1立体图为最能表明设计要点的视图。6.由于设计1、2各自的仰视图与俯视图对称，后视图、左视图和右视图均与主视图相同，所以省略仰视图、后视图、左视图和右视图。

公开(公告)号：CN302902372S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062318.3

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。

公开(公告)号：CN302902371S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062317.9

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。

公开(公告)号：CN302902370S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062316.4

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。