蒸镀方法和蒸镀装置
    71.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102482760B

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201080040615.7

    申请日:2010-09-10

    CPC classification number: H01L51/56 C23C14/042 C23C14/12 H01L51/0011

    Abstract: 使用掩模单元(80),该掩模单元(80)具备阴影掩模(81)和蒸镀源(85),且将阴影掩模(81)和蒸镀源(85)的相对位置固定,该阴影掩模(81)具有开口部(82),且面积小于被成膜基板(200)的蒸镀区域(210),该蒸镀源(85)具有射出蒸镀颗粒的射出口(86),该射出口(86)与阴影掩模(81)相对配置,进行阴影掩模(81)和被成膜基板(200)之间的空隙量的调整,将掩模单元(80)和被成膜基板(200)之间的空隙量保持一定,使掩模单元(80)和被成膜基板(200)中的至少一方相对移动,将蒸镀颗粒经由阴影掩模(81)的开口部(82)在蒸镀区域(210)上顺次蒸镀。由此,能够在大型的基板上形成高精细的蒸镀图案。

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