一种用于全面积器件转移的制备多孔硅的装置

    公开(公告)号:CN102418138B

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201110225427.8

    申请日:2011-08-08

    Inventor: 张磊 沈鸿烈

    Abstract: 本发明公开了一种用于全面积薄膜器件转移的制备多孔硅的装置,包括槽体,其特征在于:在所述的槽体上方开设有腐蚀槽,在槽体的下方开设有真空室,在所述的腐蚀槽与真空室之间开设有通孔,在所述的腐蚀槽底面设置有橡胶垫,所述的通孔位于橡胶垫的圈内,在所述的腐蚀槽内还设置有铂网阴电极;在所述的真空室内设置有金属探针电极,金属探针电极的上端穿出所述的通孔位于腐蚀槽内,在真空室内设置有抽真空气口。本发明的优点在于:结构简单,操作方便,能实现对单晶硅片正面的全面积腐蚀,从而实现外延器件整体转移的目的,并且能腐蚀多种尺寸的单晶硅片,腐蚀后的单晶硅片经过处理可以循环多次使用。

    一种太阳能电池的制造方法

    公开(公告)号:CN102185022B

    公开(公告)日:2013-07-03

    申请号:CN201110079703.4

    申请日:2011-03-31

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及太阳能电池的制造方法,可有效减少电池背面复合中心,提高电池Rsh,提升电池的性能。所述太阳能电池的制造方法,包括对硅片进行扩散制结、周边刻蚀、沉积减反射膜、印刷电极和烧结,印刷电极之前对沉积减反射膜后的硅片背面进行刻蚀,去除背表面在扩散制结过程中由于磷吸杂所形成的含非ⅢA和/或ⅤA族元素的杂质层。所述对沉积减反射膜后的硅片背面进行刻蚀的方法为离子束刻蚀、反应离子刻蚀或电化学腐蚀。本发明可以去除电池背表面由于扩散后的背面磷吸杂(单面扩散硅片的背面也有非故意的磷扩散,尤其是背面边缘部分)而形成的高浓度的深能级杂质层,减少背面复合中心,进而减少载流子的背面复合,提高电池Rsh,提升电池的性能。

    (SiH3)2Fe(CO)4的合成方法及其应用

    公开(公告)号:CN101182334A

    公开(公告)日:2008-05-21

    申请号:CN200710024630.2

    申请日:2007-06-26

    Abstract: 本发明公开了一种新的方法来合成金属有机配合物(SiH3)2Fe(CO)4及其在制备FeSi2薄膜材料方面的应用,其化合物的结构如下:将Fe2(CO)9或者Fe3(CO)12与HSiCl3在密闭的体系下于50-150℃下反应24~96h,之后在氮气保护下打开,在溶剂中用还原剂将其还原,抽干溶剂后升华(2.5mmHg,25℃)得到白色固体。产品用红外,核磁,元素分析等手段进行表征,证明是我们预期所要的化合物。

    模拟太阳能电池片光照热衰减的装置

    公开(公告)号:CN210156352U

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201921536022.4

    申请日:2019-09-16

    Abstract: 模拟太阳能电池片光照热衰减的装置,包括:底盘、连接在底盘上并向上延伸固定支架、用于放置太阳能电池片的下加热器、设置在所述固定支架上的光照加热装置、用于控制所述光照加热装置和下加热器发热量的温度控制系统,光照加热装置包括红外加热灯管,通过红外加热灯管在太阳能电池片上方模拟太阳光,并在太阳能电池片下方设置下加热器使得太阳能电池片受热均匀,通过设置温度控制系统控制太阳能电池片的温度,解决了太阳能电池片上下表面同时加热,精准控制加热温度,并在太阳能电池片上方提供光照的技术问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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