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公开(公告)号：CN101760685A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810246541.7
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明公开了属于硬质合金制备技术领域的含稀土元素的超细晶WC-Co硬质合金及其制备方法。硬质合金中WC硬质相的重量占硬质合金的85～94％，Co粘结相的重量占硬质合金的5～14％，晶粒生长抑制剂的重量占硬质合金的0.3～2.0％，稀土添加剂中稀土金属元素的重量占Co粘结相的0.2～1.2％。称量各种粉末原料，球磨、干燥、制粒成为混合料；将混合料压制成形、烧结、冷却，得到硬质合金。纳米级稀土氧化物或Co-RE复合粉体的稀土添加方式简便易行，稀土分布弥散均匀并有利于合金烧结过程中物理化学反应的进行；生产成本低；合金性能稳定提高，容易实施和生产应用。
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公开(公告)号：CN101177303B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710176758.0
申请日：2007-11-02
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C01G41/00
Abstract: 本发明公开了属于化学、冶金领域的一种从钨酸盐溶液中除钼、砷、锑、锡的方法。该方法的步骤包括：首先对钨酸盐溶液进行硫化；其次加入沉淀剂，使其与上述杂质的硫代酸盐形成有机化合物沉淀；最后加入吸附质并进行过滤分离，滤液是除杂后的钨酸盐溶液，滤渣为吸附质和有机物，吸附质经解脱-再生后可重新使用。该方法的优点是除杂效果好，设备简单，生产成本低，流程短，易于操作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100478466C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200610088905.4
申请日：2006-07-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明涉及一种RE-Mg-Ni-M系贮氢合金的制备方法。在惰性气体的保护下，采用冷坩埚磁悬浮炉熔炼得到RE-Mg-Ni-M系贮氢合金铸态产品，取铸态产品热处理得到热处理态产品。包括：(1)备料；(2)将Ni和M金属一起熔炼一次；(3)将RE金属熔炼一次；(4)将步骤(2)和(3)所得铸锭一起熔炼一次；(5)将步骤(4)所得铸锭翻转熔炼为合金熔液，添加镁中间合金，冷却得到RE-Mg-Ni-M系贮氢合金铸态产品；(6)铸态产品经热处理，得到热处理态产品。该铸态和热处理产品，单个重量为50～1000克；产品中镁含量接近设计值；铸态产品成分均匀，具有高的贮氢容量；热处理产品组织及成分均匀，具有高的贮氢容量和长的循环寿命。
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公开(公告)号：CN1900357A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200510085016.8
申请日：2005-07-19
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明涉及一种局部化学镀长管全部或局部表面的方法，用于提高内孔表面镀层的均匀性和工件的使用寿命。该方法包括下述步骤：(1)采用装有化学镀液的镀液槽、镀液驱动装置、并通过管道和阀门将所要化学镀的长管连接构成回路；(2)启动镀液驱动装置将镀液槽中的化学镀液注入长管内，同时，采用加热器在长管外部相对移动，对长管内的化学镀液加热，使长管内的表面进行化学镀；(3)将回流到镀液槽的化学镀液继续循环使用，直至长管内的表面全部或局部化学镀结束为止。加热器和工件以0.1～500mm/min的速度进行相对移动，化学镀液以0～500mm/s的速度连续通过工件内孔。该方法制备的镀层完整、厚度均匀、设备简单，适合于长管内孔表面处理。
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公开(公告)号：CN1058234A
公开(公告)日：1992-01-29
申请号：CN90104587.X
申请日：1990-07-18
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: C22C1/051
Abstract: 本发明提出了一种含稀土的硬质合金的制造方法。采用以湿法共沉淀制取的含稀土的碳化物粉或含稀土的钴粉中的一种为原料与其它粉末原料配料后制成含稀土的硬质合金。用本发明的方法制造的合金，由于合金中的稀土元素在钴粘结相中固溶和以＜0.5微米球状稀土相均匀分布，因此能充分发挥稀土元素的作用。与其他添加方式相比，可以在基本不改变合金原生产工艺的条件下明显提高合金性能，而且不同炉、批次的产品性能稳定、重复性好。
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公开(公告)号：CN202401126U
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201120534067.5
申请日：2011-12-19
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/35
Abstract: 一种用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置，该装置包括真空室、两端开口的滚筒、两个带限位斜面的支撑辊、电机及调速装置、两个磁控溅射靶架和溅射电源；支撑辊与调速装置相连，滚筒直接放在支撑辊上，通过支撑辊带动滚筒旋转，滚筒的两端开口处设有靶材。在磁控溅射镀膜时，将研磨球与粉体同时放入滚筒中，调节电机的转速，使滚筒中的研磨球与粉体颗粒呈抛物线下落，在滚筒开口处入射来的溅射流沉积到下落的粉体上，经过一定的时间获得均匀性好的薄膜。这种设备及其工艺处理量大、运行成本低，适合工业生产。
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公开(公告)号：CN201373663Y
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200820234141.X
申请日：2008-12-29
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种聚束极和加速阳极相互位置可调的电子束区熔炉，包括上、下籽晶杆移动装置、一组真空泵和电子束区熔炉本体，熔炉本体内中心轴处置上籽晶杆、料棒和下籽晶杆，还内置有电子枪；熔炉带有端侧副室和中心副室，上、下籽晶杆分别置于两端侧副室内，电子枪单元置于中心副室内；电子枪为环形，其通过一对上、下加速阳极支架固定在炉体中心副室内，其包括：一对环形电子枪上、下加速阳极，分别接在电子枪上、下加速阳极支架上；一环形聚束极，套设在上加速阳极外且立于下加速阳极的上方，聚束极与上加速阳极间形成漂移室；一由外阴极电源为其提供加速电压可发射出电子的环状阴极钨丝，置于漂移室内。其可以克服现有电子束区熔炉聚焦调整不变的缺陷。
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