玻璃基板、液晶天线和高频装置
    62.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111886209A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201980020056.4

    申请日:2019-03-13

    Abstract: 本发明提供一种能够减低高频信号的介电损耗、且耐热冲击性也优异的玻璃基板。本发明涉及一种玻璃基板,其满足{杨氏模量(GPa)×50~350℃的平均热膨胀系数(ppm/℃)}≤300(GPa·ppm/℃)的关系,20℃、35GHz下的相对介电常数为10以下,且20℃、35GHz下的介电损耗角正切为0.006以下。

    无碱玻璃
    63.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109987836A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201910222449.5

    申请日:2014-06-24

    Abstract: 本发明涉及无碱玻璃。本发明涉及收缩率低、50℃~350℃下的平均热膨胀系数小、易于浮法成形的无碱玻璃。具体来说,本发明涉及一种无碱玻璃,所述无碱玻璃的收缩率C1为5ppm以下、收缩率C2为40ppm以下,以氧化物基准的质量%计,所述无碱玻璃含有SiO2 64~72、Al2O3 17~22、MgO 1~8、CaO 4~15.5,且0.20≤MgO/(MgO+CaO)≤0.41。

    无碱玻璃及其制造方法
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109890771A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201780067341.2

    申请日:2017-10-30

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种含有澄清剂并且不容易产生搅拌再沸的无碱玻璃及其制造方法。本发明涉及一种无碱玻璃,其满足特定的特性和玻璃组成,而且含有0.05重量%~1重量%的SnO2,以SO3换算的总硫含量为0.5重量ppm~25重量ppm,并且在1分钟以内由在1500℃~1800℃下熔融的状态冷却至600℃以下后测定的S2-含量为3重量ppm以下。

    无碱玻璃基板、层叠基板和玻璃基板的制造方法

    公开(公告)号:CN119263631A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411342598.2

    申请日:2017-05-22

    Abstract: 本发明提供一种磨削率高且在将硅基板与玻璃基板贴合的热处理工序中在所述硅基板产生的残留应变小的无碱玻璃基板。本发明的无碱玻璃基板以氧化物基准的摩尔百分比计含有11.0%以上的Al2O3、8.0%以上的B2O3、1%以上的SrO,且在100℃~200℃下的平均热膨胀系数α100/200为3.10ppm/℃~3.70ppm/℃,杨氏模量为76.0GPa以下,密度为2.42g/cm 3以上。

    微晶玻璃、化学强化玻璃和半导体支撑基板

    公开(公告)号:CN113788621B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202111261226.3

    申请日:2019-08-27

    Abstract: 本发明涉及微晶玻璃、化学强化玻璃和半导体支撑基板。本发明的目的在于提供透明性和化学强化特性优异的微晶玻璃以及热膨胀系数大、透明性和强度优异并且在破损时碎片不易飞散的化学强化玻璃。本发明涉及一种微晶玻璃,所述微晶玻璃的换算成厚度0.7mm时的可见光透射率和换算成厚度0.7mm时的雾度值在特定范围内,并且具有特定的组成;并且本发明涉及一种化学强化玻璃,所述化学强化玻璃在表面具有压应力层,并且换算成厚度0.7mm时的可见光透射率、换算成厚度0.7mm时的雾度值、表面压应力和压应力层深度在特定范围内,并且所述化学强化玻璃为具有特定的组成的微晶玻璃。

    无碱玻璃基板
    68.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115611510A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211424319.8

    申请日:2019-03-08

    Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃基板,其应变点为650℃以上,50~350℃的平均热膨胀系数为30×10-7~45×10-7/℃,以氧化物基准的质量%表示,含有54~66%的SiO2、10~25%的Al2O3、0.1~12%的B2O3、合计7~25%的选自MgO、CaO、SrO和BaO中的1种以上的成分,含有150~2000质量ppm的Na2O,至少一个主面的玻璃基板表面的Na2O量比玻璃基板内部的Na2O量少20质量ppm以上。

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