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公开(公告)号：CN107433816A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201610363181.3
申请日：2016-05-27
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: B44C3/02 , B32B17/10 , B32B27/281 , B32B27/36 , B32B27/365
Abstract: 本发明公开了一种装饰薄膜，其包括：基材层；图案层，其设置于基材层的一侧，该图案层上设有均匀排布的微结构单元，该微结构单元上设置有复数个平行排布的周期性的柱面结构；黏着层，其相对图案层设置于基材层的另一侧。同时本发明还公开了一种装饰玻璃。与现有技术相比，本发明的装饰薄膜可以获得特殊动态光变色效果，通过在薄膜上形成微结构，从而在宏观效果上具有特殊的视觉效果，在视觉效果上更为闪亮，衍射效果更高，应用于产品表面，起到了装饰、品牌保护、成本控制、环保各方面的效果。
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公开(公告)号：CN105629678B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201610047977.8
申请日：2016-01-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种直写系统运动平台的正交性测定方法，包括以下步骤：步骤一，设计光刻文件，使其四个角具有定位标记点；步骤二，将基板固定于运动平台上；步骤三，根据光刻文件对基板进行直写曝光；步骤四，记录下基板各个侧边对应运动平台的XY方向，然后进行显影、清洗、烘干；步骤五，将基板旋转90°后固定于直写系统的运动平台上；步骤六，移动运动平台，分别使得四个定位标记点位于CCD的中心位置，并记录下相应的位置坐标；步骤七，将位置坐标连线形成平行四边形，计算运动平台的正交性。本发明相较于现有技术，无需借助第三方设备与工具，周期快，简单便捷，成本低，而且适用于大幅面平台的校正。
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公开(公告)号：CN104185410B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN106842606A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN106526730A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611040561.X
申请日：2016-11-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种宽视角波导镜片及制作方法和头戴式三维显示装置，利用具有能实现会聚光场视角放大功能即光栅透镜功能的纳米光栅结构，实现三维虚拟信息的视角放大，并在人眼前投射，通过宽视角波导镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合，由于视角得以放大，使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象，使得体验更加真实，同时基于全息原理，可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合，从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105374467B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号：CN103488036B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201310437594.8
申请日：2013-09-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种全息立体投影屏及其投影方法，投影屏包括基材层，与所述基材层的表面结合，分布有离轴响应结构和可控扩散结构，离轴响应结构使入射光整体偏折向观察区域；可控扩散结构使入射光沿一维或二维方向扩散，实现离散三维空间角谱的线性插值，形成连续的三维空间信息，实现立体投影；所述离轴响应结构和可控扩散结构的参数分别独立调制。投影光线由多束不同角度入射的携带有该角度图像信息的光线组成，投影光线由离轴响应结构偏折至观察区域，并由可控扩散结构作用形成扩散光线，不同角度入射的光线的扩散光线相互拼接形成连续的空间角谱。本发明可同时实现离轴投影和全息立体投影，立体效果好，能量利用率高。
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公开(公告)号：CN104015431B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410281649.5
申请日：2014-06-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种纳米自清洁和主动防雾功能的保护玻璃及其制备方法，所述保护玻璃从上向下依次包括第一纳米结构层、透明光学玻璃层、树脂层及第二纳米结构层，所述第一纳米结构层和第二纳米结构层为阵列纳米结构，材质为具有疏水特性的树脂，所述树脂层中形成有网格沟槽，沟槽中形成有金属网格，树脂层的边缘周围设有与金属网格电性导通的金属线，金属网格通过金属线与外电路电性连接。本发明采用纳米压印的方法，可以高效复制纳米结构，性能稳定性高、成本低，突出地利用了金属网格加热实现防雾功能。
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公开(公告)号：CN105538726A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610090877.3
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于薄膜基底的三维成型装置及方法，该装置包括送料机构、曝光机构、支撑机构及分离机构，通过送料机构将感光材料层送入相应的曝光区域中，由曝光机构对感光材料层进行曝光，实现对每层指定图形的固化生成，每层图形叠加在一起，在支撑机构上形成所需零件，而分离过程与曝光过程同步进行，随着分离机构向右移动，在张力的作用下，薄膜基底材料层逐渐与支撑机构上已成型零件的顶面分离，而未被曝光的感光材料层也同时被剥离于支撑机构外，曝光和分离动作同时进行，可以提升工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN105487239A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510778086.5
申请日：2015-11-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供了一种指向性彩色滤光片和裸眼3D显示装置，包括彩色滤光片和指向性功能结构层；彩色滤光片包括多个滤光单元，每一滤光单元包括至少三个不同颜色的滤光子单元；指向性功能结构层包括多个结构单元，每一结构单元与一滤光单元对应设置；每一结构单元包括至少三个结构子单元；每一结构子单元与一滤光子单元对应设置；每一结构子单元包括多个纳米衍射光栅；同一结构子单元内的纳米衍射光栅的周期和取向角不同，从而不会出现同一纳米衍射光栅出射两种颜色的光，导致光线串扰的问题，且该指向性彩色滤光片在技术上较容易实现，使得本发明提供的基于指向性背光技术的无视觉疲劳的多视角的裸眼3D显示装置较易得到实际应用。
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