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公开(公告)号:CN110850659A
公开(公告)日:2020-02-28
申请号:CN201911185865.9
申请日:2019-11-27
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明公开的一种微尺度激光测量扫描装置,属于微纳米测量和光电测量技术领域。本发明包括激光测量仪器、第一λ/2波片、第二λ/2波片、第三λ/2波片、第一偏振分光镜、第二偏振分光镜、第三偏振分光镜、第一透镜、第二透镜、被测目标、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第一声光调制器、第二声光调制器、正弦信号源、电子计算机。以声光调制器的光频衍射色散为基础,用频率信号进行位移控制,实现微尺度范围的精确扫描控制,扫描过程中,仅有测量激光束在平移扫描,同时避免机械结构运动,没有机械回程、迟滞、磨损、环境条件漂移等缺陷,能够实现高精度的扫描控制。通过本发明能够将简单的测量激光光束变成具有精确微位移功能的光学扫描探针。
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公开(公告)号:CN108007334B
公开(公告)日:2020-01-24
申请号:CN201711295828.4
申请日:2017-12-08
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01B7/16
Abstract: 本发明涉及一种电阻应变测量仪的阶跃响应特性测量方法及装置,属于应变电测量计量测试技术领域。内容包括:针对阶跃响应时间远小于采样间隔的电阻应变仪动态特性的计量校准,即在一个采样间隔时间内已结束了其阶跃响应过程的情况,通过使用稳定可靠的高速电子开关按照约定规律控制产生周期性的电阻阶跃波形,产生模拟阶跃应变激励,对采样序列按照预定的规律进行数据排序处理,最终生成具有比实时采样速率高得多的等效采样序列,以等效采样方式在低采样率情况下实现高速采样,避免在阶跃响应上升沿上采样点过少而无法获得阶跃响应特性的问题,从而获得有效的阶跃响应特性曲线,结合动态校准理论和方法,最终实现电阻应变仪动态特性的计量校准。
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公开(公告)号:CN108398099A
公开(公告)日:2018-08-14
申请号:CN201711101336.7
申请日:2017-11-09
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01B11/16
Abstract: 本发明属于应变量计量测试技术领域,涉及一种单点激光应变标定误差的修正方法。其特征在于,应变标定误差的修正步骤是:激振;测量;计算A点的实际位移值序列di;计算C点的应变波形序列εci(x);曲线拟合。本发明提出了一种单点激光应变标定误差的修正方法,能够修正测量点C的定标误差,提高了被测应变片的赋值精度,保证了其测量结果的准确性。
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公开(公告)号:CN107918237A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201810017960.7
申请日:2018-01-09
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种双飞秒光学频率梳产生装置,属于飞秒激光技术领域。该装置具有光纤和空间光路组成的环形谐振腔结构,包括:泵浦源、波分复用器、压电陶瓷、掺铒光纤、单模光纤、第一光纤准直镜、第二光纤准直镜,以及空间光路元件第一1/4波片、第一1/2波片、偏振分束棱镜、光隔离器、第二1/2波片、第二1/4波片;还包括光栅对;所述光栅对由第一光栅和第二光栅组成,置于所述偏振分束棱镜与所述光隔离器之间。装置通过光栅对引入光程差,从而产生重复频率有差异的双飞秒光学频率梳,重频差可通过光栅对的间距进行调节。本发明的装置成本低、体积小、结构简单紧凑、操作方便,具有广泛的工程应用前景。
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公开(公告)号:CN104796116B
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:CN201410384342.8
申请日:2014-08-06
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: H03K5/1532
Abstract: 本发明涉及一种基于参数拟合的冲击波形峰值测量方法,属于振动冲击、机械工程领域以及计量测试技术领域。具体方法为使用冲击激励源产生冲击激励,用传感器及配套波形数据采集系统进行波形测量,获得完整的冲击测量波形等间隔采样序列;用比较法获得冲击波形的最大值和最小值;从冲击测量波形等间隔采样序列中截取最大值和最小值之间靠近峰值附近的近似半正弦部分波形用于峰值计算;用正弦波拟合方法进行冲击波形峰值的四参数拟合过程;以拟合正弦波幅度值和直流分量迭加计算冲击测量波形峰值;给出拟合残差有效值作为峰值拟合优劣的辅助判据。具有不需要峰值滤波器,准确度和分辨力更高的计算效果。
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公开(公告)号:CN106382979A
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201610849472.3
申请日:2016-09-23
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01H9/00
CPC classification number: G01H9/00
Abstract: 本发明涉及一种激光测振仪阶跃响应特性的测量装置及方法,属于光电测量技术领域。本发明的光频调制器测量装置,包括被计量对象激光测振仪、偏振片P1、偏振片P2、偏振反射镜M1、半透半反镜M2、声光调制器AOM1、声光调制器AOM2、FM信号源、方波信号源、正弦信号源、半透半反镜M3、反射镜M4、M5、M6、M7、半透半反镜M8、光电探测器等,通过拍频将该光频调制信号下变频至射频范围,然后,借助于高速数据采集和量化技术获取信号波形序列,以数字化方式实现激光频率调制信号波形的瞬时频率精确解调,进而获得作为标准的运动速度波形和运动加速度波形,并最终解决激光测振仪本身阶跃响应的精确测量和量值溯源问题。
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公开(公告)号:CN106370111A
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201610849027.7
申请日:2016-09-23
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明涉及一种基于变频测相原理的飞秒激光测长装置及方法,属于长度测量技术领域。本发明包括飞秒激光器、滤波片、分光镜、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第三平面反射镜、第一角耦反射棱镜、第二角耦反射棱镜、第一凹面反射镜、第二为凹面反射镜、聚焦透镜、第一光电探测器、第二光电探测器等,使用微调飞秒激光频率梳脉冲重复频率的方法取代了同时需要较大范围机械运动的参考臂调节和飞秒激光频率梳重复频率双重调节过程,通过不同的互质重复频率下的相位测量结果,以解不定方程形式判断重复周期个数,从而达到较快速的距离测量目的。本发明无须调节测量臂长,也不需要重复周期个数只能变化一个的苛刻条件即可实现距离测量。
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公开(公告)号:CN106153177A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201610724475.4
申请日:2016-08-25
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01H9/00
CPC classification number: G01H9/00
Abstract: 本发明涉及一种激光测振校准用大触发延迟的量子化测量方法,属于无线电计量测试技术领域。利用相同延迟时间差所对应的正弦信号相位差与正弦信号频率成正比,且相位同时具有周期性的量子化特征,使用互相为质数规律的3个不同频率正弦波形作为触发激励信号,利用固定触发延迟τ在不同频率fk下的相位差φk具有在基础相位差基础上以2π为间隔跳动的量子化特征且理论上不同相频点(fk,φk)在同一直线上来判定量子化整数,再使用这些正弦激励信号周期(频率fk)和相位差φk来测量τ,激光测振仪的延迟可进一步通过数字示波器大触发延迟测量功能来读取。本发明无需硬件延迟器件,可实现对任意选定的大触发延迟进行精确测量和校准。
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公开(公告)号:CN103308149B
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201310252759.4
申请日:2013-06-24
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明涉及机器视觉同步对焦扫描式激光测振装置,属于冲击与振动的精密测量技术领域。装置由机器视觉测量单元、位置解算及控制单元、扫描调焦控制单元、扫描激光测振光学组件、干涉信号解调单元、控制及信息处理单元组成;该装置同步对焦由机器视觉测量单元完成,实现测量空间坐标与扫描式激光测振仪的焦距信息关联管理。本发明结构简单,操作方便,便于测量及控制,能够有效提高冲击振动测量精度,通过机器视觉测量单元实现同步对焦,提高了扫描测振的测量速度与准确度。
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公开(公告)号:CN104900487A
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201510203149.4
申请日:2015-04-24
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
CPC classification number: H01L21/0203 , B23K26/3584
Abstract: 本发明涉及一种点阵扫描制备黑硅的方法和装置,属于半导体光电材料制备领域。该方法包括1:将硅片置于含掺杂物质的样品室中;2:将脉冲激光器的单束激光依次通过光阑、反射镜、半波片、偏振片、快门、扩束镜、聚焦透镜和达曼光栅等元件得到点阵激光;3:将点阵激光辐照硅片表面,通过计算机控制快门的开闭和三维平移台的运动实现点阵扫描,得到表面为微尖锥结构的黑硅材料。本发明通过引入达曼光栅,将单束激光变成二维的等光强阵列光束。达曼光栅对激光进行分束时,避免了普通半透半反镜分光过程中色散的影响,同时保证了分束后的光束质量。本发明将制备黑硅的方式由逐点扫描改为点阵扫描,大幅提高了黑硅的制备效率。
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