一种高度取向结构厚膜的制备方法

    公开(公告)号:CN116253917A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310124633.2

    申请日:2023-02-16

    Abstract: 本发明涉及一种高度取向结构厚膜的制备方法,其包括将二维纳米片分散在溶剂中得到二维纳米分散液;将二维纳米分散液平铺于基材表面,形成片层随机取向的第一凝胶膜层;将多根直线插入第一凝胶膜层的内部诱导切变流场进行取向处理,形成片层高度定向排布的第二凝胶膜层,该直线与第一凝胶膜层在基材平面平行的方向上发生相对运动,该相对运动为速度介于3mm/s‑16mm/s之间的平动或转速介于600rpm‑1100rpm之间的转动;干燥第二凝胶膜层,得到高度结构取向的二维纳米片基厚膜。本发明的制备方法,在厚度为80μm‑400μm范围内可制备出结构取向因子为0.91‑0.99的高定向厚膜。

    一种石墨烯基温控涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN114958193A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210583268.7

    申请日:2022-05-26

    Abstract: 本发明涉及一种石墨烯基温控涂层,其覆盖在基材上并包括由高导热石墨烯粉体和高辐射石墨烯粉体构成的导热‑辐射无缝串联散热梯度结构,从靠近基材的一侧到远离基材的另一侧,高导热石墨烯粉体和高辐射石墨烯粉体的质量比从1:0.01~1:0.1梯度变化至1:1~1:5。本发明还涉及上述的石墨烯基温控涂层的制备方法,在基材上同时分别动态涂覆或动态混合后涂覆高导热石墨烯基复合涂料和高辐射石墨烯基复合涂料,涂覆时高导热石墨烯基复合涂料的加载速率逐渐减小,高辐射石墨烯基复合涂料的加载速率逐渐增大。根据本发明的石墨烯基温控涂层,可充分发挥高导热和高辐射两种热量传递通道的协同效应,实现对基材温度的有效调控。

    一种双模态造影剂的制备方法

    公开(公告)号:CN111714646B

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201910687518.X

    申请日:2019-07-29

    Abstract: 本申请提供一种双模态造影剂的制备方法,包括以下步骤:获取生物质材料、无机稀土盐和溶剂;将生物质材料和无机稀土盐加入溶剂中,获得第一混合体系;将第一混合体系进行溶剂热反应处理,获得第二混合体系;对第二混合体系依次进行抽滤、透析和真空干燥,获得造影剂;造影剂用于荧光‑核磁共振双模态成像。本申请提供的一种双模态造影剂的制备方法步骤简单,材料成本低,且能够快速制备,制得的造影剂在应用中弛豫率较高,且同时具有的荧光特性使得该造影剂具有荧光‑核磁共振双模态成像的功能。

    一种高弛豫率双模态造影剂的制备方法

    公开(公告)号:CN111714645B

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201910671725.6

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 本发明公开了一种高弛豫率双模态造影剂的制备方法,包括以下步骤:提供石墨烯量子点和第一溶剂,将所述石墨烯量子点溶解于所述第一溶剂中,并超声处理,形成第一混合溶液;向第一混合溶液中加入第二溶剂,形成第二混合溶液;将第二混合溶液进行溶剂热反应,得到第三混合溶液;向第三混合溶液中加入钆无机盐,得到第四混合溶液;将第四混合溶液进行溶剂热反应,得到第五混合溶液;将第五混合溶液透析纯化后,再冷冻干燥处理,得到高弛豫率双模态造影剂。本发明相对于现有技术,具有制备过程简单、产物结构可控、产率高等优点,本发明方法制备的造影剂具有较高的弛豫率,且可同时应用于核磁共振成像技术及荧光成像技术。

Patent Agency Ranking