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公开(公告)号:CN104795121A
公开(公告)日:2015-07-22
申请号:CN201410028126.X
申请日:2014-01-22
Applicant: 上海联影医疗科技有限公司
IPC: G21K1/02
CPC classification number: G21K1/02
Abstract: 本发明公开了一种分体式初级准直器,分体式初级准直器,包括具有一个第一通孔的固定部和具有多个第二通孔的活动部,所述第一通孔和第二通孔相匹配,组合后形成供射线束通过的限束孔。本发明提供的分体式初级准直器,通过将初级准直器上下分开划分为上半固定部和下半活动部,初级准直器的上半固定部是通用的,配以不同的下半活动部,完成治疗时对初级准直器和均整射线束的不同要求,从而能够大大提高屏蔽效果,节省制作材料,且易于调节切换,更好地满足初级准直器对不同放疗模式的支持。
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公开(公告)号:CN102933257B
公开(公告)日:2015-06-17
申请号:CN201180019300.9
申请日:2011-04-01
Applicant: 若埃尔·凯尔让
Inventor: 若埃尔·凯尔让
CPC classification number: A61N5/1042 , A61B6/06 , A61N2005/1091 , G02B5/005 , G02B6/0096 , G21K1/02 , G21K1/025 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及一种用于放疗设备的光导装置,所述光导装置包括:由多个金属通道构成的中央截锥,和围绕中央截锥且包括多个微通道的外部壳体。所述通道和微通道为截头圆锥形并具有公共顶点。
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公开(公告)号:CN104066375A
公开(公告)日:2014-09-24
申请号:CN201380006588.5
申请日:2013-01-22
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/06 , A61B6/4035 , A61B6/4233 , A61B6/502 , F04C2270/041 , G21K1/02 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及对象的相衬X射线成像。为了提供在多于一个方向的相衬信息,提供一种X射线成像系统,所述X射线成像系统包括X射线源(12)、X射线探测器装置(16)、以及具有相位-光栅结构(46)和分析器-光栅结构(48)的光栅装置(18)。所述X射线探测器装置包括在第一方向平行于彼此的至少八个线探测器单元(40),所述至少八个线探测器单元在垂直于所述第一方向的方向(44)线性延伸。所述X射线源、所述X射线探测器装置和所述光栅装置适于在平行于所述第一方向的扫描方向执行相对于对象的采集移动。所述相位-光栅结构具有若干线性相位-光栅,它们中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线固定关联;第一部分作为在所述第一方向具有狭缝的第一相位-光栅,并且第二部分作为在不同于所述第一方向的第二方向具有狭缝的第二相位-光栅。所述分析器-光栅结构具有若干线性分析器-光栅,它们中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线固定关联;第一部分作为在所述第一方向具有狭缝的第一分析器-光栅,并且第二部分作为在所述第二方向具有狭缝的第二分析器-光栅。所述线探测器单元中的至少四个毗邻的线与所述第一相位-光栅和所述第一分析器-光栅关联,并且所述线探测器单元中的至少四个毗邻的线与所述第二相位-光栅和所述第二分析器-光栅关联。所述光栅装置可以包括被布置在所述X射线源与所述相位-光栅结构之间的源-光栅结构,用于为经过所述源-光栅结构的所述X射线束提供足够的相干性,使得在经过所述相位-光栅结构之后,可以在所述分析器-光栅结构的位置处观察到干涉。
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公开(公告)号:CN103620694A
公开(公告)日:2014-03-05
申请号:CN201280031635.7
申请日:2012-06-05
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G21K1/10
CPC classification number: A61B6/4035 , A61B6/035 , A61B6/06 , G21K1/02 , G21K1/10
Abstract: 一种成像系统(300),包含辐射源(308),所述辐射源(308)从焦斑(312)向检查区域的方向发出辐射。所述成像系统还包含束整形器(314),所述束整形器(314)设置于所述焦斑和所述检查区域之间,对从所述源发出的并入射到所述束整形器上的所述辐射的x射线传输分布进行整形,使得离开所述束整形器的所述辐射具有预定的传输分布。
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公开(公告)号:CN103505235A
公开(公告)日:2014-01-15
申请号:CN201310242211.1
申请日:2013-06-19
Applicant: 通用电气公司
Inventor: N.德米亚诺维奇
IPC: A61B6/03
Abstract: 本发明的准直仪包括x射线阻挡表面,所述x射线阻挡表面包括限定孔径边缘的一个或多个大体平直的板。孔径边缘包括:包含孔径边缘的第一端的第一端部分,包含孔径边缘的第二端的第二端部分,以及包含孔径边缘的中心的中心部分。孔径边缘的第一端部分对应于检测器的第一端部分,孔径边缘的第二端部分对应于检测器的第二端部分,以及孔径边缘的中心部分对应于检测器的中心部分。孔径边缘的轮廓在孔径边缘的第一端与孔径边缘的中心之间的点突变。
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公开(公告)号:CN103376273A
公开(公告)日:2013-10-30
申请号:CN201310126454.9
申请日:2013-04-12
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/316 , G21K1/02
Abstract: 本发明提供一种X射线检测装置,该装置包括X射线照射部(4)、X射线检测器(5)、能移动的准直器(2)以及遮蔽X射线的遮蔽体(3)。遮蔽体(3)遮蔽从X射线照射部(4)要向X射线检测器(5)直接入射的X射线。此外,遮蔽体(3)遮蔽因向准直器(2)照射X射线而产生的荧光X射线和散射X射线。由此,能防止来自试样S的荧光X射线以外的X射线被X射线检测器(5)检测到。遮蔽体(3)与准直器(2)连接,准直器(2)和遮蔽体(3)成为一体一起移动。即使在小型化的X射线检测装置内也能够确保遮蔽体(3)的位置。
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公开(公告)号:CN103330570A
公开(公告)日:2013-10-02
申请号:CN201310152478.1
申请日:2013-04-27
Applicant: 中国人民解放军北京军区总医院
CPC classification number: A61B6/4405 , A61B6/03 , A61B6/06 , A61B6/4291 , G21K1/02
Abstract: 本发明公开了一种X射线准直器、X射线准直系统及移动CT扫描仪,该X射线准直器包括方形本体,所述方形本体上沿其长度方向上开设有方形的缝隙。该X射线准直系统,包括:X射线源,所述X射线源的X射线出射光路上设有上述的准直器。该移动CT扫描仪,包括上述的X射线准直系统。本发明的X射线准直器通过吸收的方式将X射线管发出的X射线光束限制在探测器能够接收到的范围内,性能优异,避免被检人体吸收额外的辐射剂量。本发明的后准直器则放在探测器前,吸收散射的X光子,提高探测器采集到的信号的信噪比。
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公开(公告)号:CN102812164A
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201180014855.4
申请日:2011-06-10
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C25D5/02 , C25D7/00 , C25D7/12 , G21K1/06 , H01L21/768
CPC classification number: C25D5/022 , C25D7/123 , G21K1/02 , G21K2207/005
Abstract: 一种微结构制造方法包括:在Si基板上形成第一绝缘膜;通过去除第一绝缘膜的一部分来露出Si表面;通过从露出的Si表面刻蚀Si基板来形成凹部;在凹部的底部和侧壁上形成第二绝缘膜;通过去除在凹部的底部上形成的第二绝缘膜的至少一部分来形成Si露出表面;以及通过电解镀敷从Si露出表面用金属填充凹部。
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公开(公告)号:CN102760505A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201210138352.4
申请日:2012-04-26
Applicant: 通用电气公司
Inventor: N·德米亚诺维奇二世
Abstract: 本公开涉及复合材料X射线准直器及其制造方法。公开了用于在计算机断层摄影(CT)系统中使x射线束整形的复合材料患者前准直器(50)。该患者前准直器(50)包括:底座(52),其由第一材料组成,该第一材料具有第一材料密度;和插入物(54),其机械耦合于该底座(52)并且由第二材料组成,该第二材料包括具有大于该第一材料密度的第二材料密度并且足以阻挡高频电磁能的可模塑材料。该底座(52)包括多个结构特征(56,58,60),该插入物(54)通过这些结构特征(56,58,60)模塑到该底座(52),其中该插入物(54)的可模塑材料形成与这些多个结构特征(56,58,60)的连接以机械耦合该底座(52)和该插入物(54)。
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公开(公告)号:CN102741709A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201180007870.6
申请日:2011-03-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor: 金子泰久
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/4092 , A61B6/4291 , A61B6/484 , C25D3/00 , G21K1/02 , G21K1/025 , G21K2201/06 , G21K2201/067 , G21K2207/005
Abstract: 本发明公开了一种用于放射线成像的格栅和制造该格栅的方法。导电基板(18)和蚀刻基板(20)相互结合。蚀刻掩模(25)使用光刻技术形成在蚀刻基板(20)上,沟槽(20a)和X射线透射部分(14b)通过干蚀刻使用博施法形成。沟槽(20a)通过电镀方法使用导电基板(18)作为电极填充有Au(27)。因此,X射线吸收部分(14a)形成。
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