-
公开(公告)号：CN103424795B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201310395380.9
申请日：2013-09-03
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1861 , G03F7/70408
Abstract: 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统，该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构，该光栅结构具有槽形反射面和非反射区，所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。
-
公开(公告)号：CN104464838A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410784590.1
申请日：2014-12-16
Applicant: 苏州大学
IPC: G12B5/00
Abstract: 本发明公开了一种Z轴负向放大一维精密定位平台，包括Z轴负向放大机构、用于保护Z轴负向放大机构的基座、位于Z轴负向放大机构上方的运动平台，所述Z轴负向放大机构包括若干柔性臂、固定在柔性臂两侧的平行板、连接柔性臂与运动平台的输出件、压电陶瓷安装件以及与基座连接固定的底盘，所述平行板通过柔性铰链与柔性臂柔性连接，位于所述平行板之间、所述Z轴负向放大机构下方、所述底盘上方的空间内设置有压电陶瓷，所述压电陶瓷通过设置在两侧的平行板上的压电陶瓷安装件固定。本发明相较于传统的放大定位平台具有行程范围大、精度高、结构简单、体积小、刚度大、灵敏度高、分辨率高、纳米级、适宜作微动平台等优点。
-
公开(公告)号：CN104191860A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410428043.X
申请日：2014-08-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: B42D25/342 , B42D25/40
CPC classification number: B42D25/342 , B42D25/40
Abstract: 本发明公开了一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法，莫尔图像薄膜包括透明基材层、位于透明基材层一侧的微透镜阵列层、以及位于透明基材层另一侧的微图形阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。本发明莫尔图像薄膜所形成的莫尔图像具有彩色、动态、和立体的特性，观察者在任何光环境下，不需要特殊的观察技巧就可以观察到彩色三维动态图形。
-
公开(公告)号：CN103969941A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410224727.8
申请日：2014-05-26
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法和图形化方法，其中掩膜版包括：掩膜衬底；形成于所述掩膜衬底上的若干纳米凸起，所述若干纳米凸起之间具有间距；覆盖于所述若干纳米凸起表面的遮挡层。本发明的掩膜版的优点有：(1)遮挡层超薄，用原来厚度三分之一的遮挡层厚度就达到3级以上光学密度，减少了遮挡层中物料的使用量。(2)吸收率高，大部分反射光能陷于纳米凸起，有利于光刻线条形貌品质的提升。(3)工艺过程与传统掩膜兼容，制作成本低。(4)图形化去除遮挡层后露出的透光部分，纳米凸起具有减反增透作用，而且由于其超小结构，将不影响入射波面的传输，对接近式和投影式光刻均能适用。(5)具有大带宽和角度不敏感的吸波特性。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103562755A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201180071287.1
申请日：2011-05-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/26
CPC classification number: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括介质光栅层（220）、金属层（230）和第一介质层（240）。金属层设置于介质光栅层的脊部、至少一个侧部和部分沟槽部之上。反射外部光线的第一介质层设置于介质光栅层和金属层上。由于部分介质光栅层通过金属层在沟槽部上的缺口露出，降低了共振输出的角度敏感性，减少了光线入射角度对共振条件的影响。从而在较宽的角度范围内都能实现反射滤光。
-
公开(公告)号：CN102591159B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201210076397.3
申请日：2012-03-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中，位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中，加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动，光学模板实现第三运动轴的扫描运动，通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿，实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步，从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工，其加工效率和加工精度大幅提升。
-
公开(公告)号：CN103257156A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310178984.8
申请日：2013-05-15
Applicant: 苏州大学
IPC: G01N27/00
Abstract: 本发明属于传感器技术领域，公开了一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，首先将氧化石墨烯在混合溶剂中超声分散，形成单片分散的悬浮液，加入吡咯继续反应，得到还原氧化石墨烯的固体粉末，分散至有机溶剂中形成分散液，取分散液滴加到电极表面，真空干燥，从而得到基于还原氧化石墨烯的气体传感器；通过本发明的方法制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的传感性能，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。
-
公开(公告)号：CN102798918A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
-
公开(公告)号：CN102789021A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210319494.0
申请日：2012-08-31
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素结构包括基底、位于基底之上的金属层、位于金属层上的介质层以及位于介质层上的二维金属光栅层，所述金属层的厚度大于可见光在该金顺层内的趋肤深度，所述像素结构的表面等离子体共振频率为该像素颜色的补色光频率。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有高光能利用率、低的角度敏感性，同时具有对偏振不敏感的特点。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
618
records
(took 0.045 seconds)
