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公开(公告)号：CN101565278A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910098338.4
申请日：2009-05-08
Applicant: 浙江大学
IPC: C03C17/09
Abstract: 本发明涉及一种筒体式石英晶体的双面溅射被银装置，它包括真空腔体、真空抽气机组、工件架、磁控溅射靶、射频等离子清洗器和惰性气体充气器，所述真空抽气机组和惰性气体充气器分别与真空腔体相连，其特征在于所述真空腔体中设有工件架，该工件架能转动，所述工件架上安装有能翻转的基片架，所述基片架上设有载片盘，所述载片盘上设置有石英晶体片和掩膜片，所述工件架的一侧至少设置两个带挡膜罩的磁控溅射靶，另一侧设置一个射频等离子在线清洗器，其中一个磁控溅射靶为过渡层溅射靶，其它磁控溅射靶为电极层溅射靶。由于采用了多靶磁控溅射、自转加公转的工件架和在线射频等离子清洗器结构，能够对石英基片实时清洗并双面镀覆铬加银的多层膜系结构的电极膜，所镀膜层均匀性一致性好，膜层与石英基片的结合力强，吞吐量大生产效率高，设备结构紧凑体积小，是一种理想的石英晶体被银装置。
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公开(公告)号：CN100494478C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610049912.3
申请日：2006-03-20
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明属于新型抗电磁干扰(EMI)屏蔽技术领域，特别是涉及一种电磁双重屏蔽膜的溅射制备方法，其制备工艺是选择特定成分奥氏体组织的镍铬类不锈钢靶材—对塑料表面清洗和活化—金属化溅射镀；所述金属化溅射镀采用的溅射靶为奥氏体的镍铬类双相不锈钢靶材；其直径为60毫米，铬和镍当量为(18，7)，其标准金相组织是临近铁素体区的奥氏体；鉴于奥氏体是顺磁体，它具有较高的溅射成膜速率，通过溅射可以快速获得铁磁性的铁素体不锈钢薄膜，该薄膜具有磁屏蔽和电屏蔽效果，并且具有不锈钢材料良好的耐候性；本发明具有工艺设计合理、溅射成膜速度快、生产成本低廉等优点，它是一种较理想的电磁双重屏蔽膜的溅射制备方法。
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公开(公告)号：CN101277099A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810060160.X
申请日：2008-03-12
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明属于新型射频电子元器件领域，特别是涉及一种适用于FBAR的金属布拉格声波反射层结构；它包括高声抗阻层和低声抗阻层，其特征在于所述高声抗阻层和低声抗阻层为金属薄膜，其中高声抗阻层由钨与钼中的一种材料构成，低声抗阻层由金属铝构成，所述高声抗阻层与低声抗阻层交替叠合而成；所述高、低声抗阻层的厚度为1/4或3/4声波波长。所述高、低声抗阻层的层数相对应，其层数为3－7层；该布拉格反射层具有工艺简单、膜厚便于控制且重复性好、金属之间结力好和金属间热应力小，是一种用于薄膜体声波器件的布拉格声反射层的良好材料和结构。
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公开(公告)号：CN1865489A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200610048942.2
申请日：2006-01-06
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明涉及一种贴片电感骨架的连续溅射镀膜设备，它包括机体、真空抽气装置和惰性气体充气机构，所述真空抽气装置和惰性气体充气机构分别与机体相连通，其特征在于所述机体由依次相通的预抽室、清洗室、溅射腔室和出片室构成，机体内设有基片输送装置，所述基片输送装置上设有工件架，该工件架上安装有基片架，基片架上设有掩膜板，在溅射腔室内设有金属溅射靶，在清洗室内设有等离子清洗装置，所述基片输送装置能够将安装有基片架的工件架依次输送到预抽室、清洗室、溅射腔室和出片室中；具有结构简单、适应性广、能耗低、电极层抗熔蚀、抗拉性强、生产过程无污染、产量大，它是一种大吞吐量的贴片电感骨架金属化镀膜设备。
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公开(公告)号：CN1819758A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200610049911.9
申请日：2006-03-20
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明属于新型抗电磁干扰(EMI)屏蔽技术领域，特别是涉及一种电磁双重屏蔽膜，包括铁、铬、镍、钛锰、钴，其特征在于所述金属成分的百分含量为：Fe：30％～85％，Cr：5％～50％，Ni：1％～20％，Ti：1～10％；所述金属成分按照铬当量([Cr]＝Cr+Mo+0.015Si+0.005Ti)和镍当量([Ni]＝Ni+0.3C+0.005Mn)成分配比，计算的镍当量[Ni]小于24，铬当量大于16；由于本发明是采用奥氏体的镍铬类不锈钢作为溅射靶材，鉴于奥氏体是顺磁体，它具有较高的溅射成膜速率，通过溅射可以快速获得铁磁性的铁素体不锈钢薄膜，该薄膜具有磁屏蔽和电屏蔽效果，并且具有不锈钢材料良好的耐候性，它是一种镀覆于电子产品塑料外壳表面的理想金属膜之一。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1794377A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200610048944.1
申请日：2006-01-06
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明属于基本电器元件技术领域，特别是涉及一种溅射膜电极贴片电感及其生产方法；所述电感包括骨架和线圈，所述骨架的一个端面上设有电极层，所述线圈的线头与电极层相固接，其特征在于所述电极层至少由一层溅射薄膜构成，所述溅射薄膜为层状导电体；所述电感采用清洗骨架端面、真空镀膜、绕制线圈和高温焊接的工艺方法制成；由于采用了先进的生产工艺、产品全制程无污染、而在骨架上采用金属溅射薄膜作为电极层的结构，具有结构简单、适应性广、成本低廉、膜层结合牢固、高温焊接性能优良、用料省、性能稳定等优点，因此它是一种较理想的溅射膜电极贴片电感及其生产方法。
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公开(公告)号：CN1794376A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200610048943.7
申请日：2006-01-06
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明属于基本电器元件技术领域，特别是涉及一种带有溅射膜电极的电感骨架及其生产方法，它包括骨架和金属电极层，其特征在于所述骨架采用高分子聚合物材料制成，在骨架端面上贴合有金属电极层，该电极层至少由一层溅射薄膜构成，所述溅射薄膜为层状导电体；本发明是采用真空环境准备、骨架端面清洗和溅射贴膜的工艺方法制造的，与背景技术相比，本发明具有工艺设计合理、全制程无污染、金属电极层与骨架结合牢固、高温焊接性能优良、用料省、耗电低、制造成本低廉、产品结构简单、抗熔蚀、抗拉性强、无污染、符合国际市场的指标要求，它是目前一种较为理想的溅射膜电极贴片电感骨架及其生产方法。
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公开(公告)号：CN1035566C
公开(公告)日：1997-08-06
申请号：CN94114080.6
申请日：1994-12-28
Applicant: 浙江大学
Abstract: 一种双向真空阀，其特征是由升降杆3带动的滑块41，其左右两端各布置一组滚动轴承44A和44B，升降杆3上升时，滚动轴承44A推动闭合板2密封真空通道A，滚动轴承44B挤压阀座1的B侧内壁，升降杆3下降时，真空通道A畅通。同现有技术比较，本方案的突出优点是闭合板2能面向大气压反向密封，或者背向大气压正向密封，同时还可用于闭合板2的两侧皆为真空时的密封，可广泛应用于各种真空设备，特别是连续式真空设备中。
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