公开(公告)号：CN107833918B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201710377223.3

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 下村纱矢 ,  加藤浩朗 ,  小林研也

IPC: H01L29/78

Abstract: 本发明的实施方式提供一种能够抑制寄生晶体管的动作的半导体装置。实施方式的半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、栅极电极、第1电极、第2绝缘部、第3绝缘部、及第2电极。栅极电极隔着第1绝缘部设置在第1半导体区域中及第2半导体区域中，且在第1方向上延伸。第1电极设置在第3半导体区域之上，且与第3半导体区域电连接。第2绝缘部在第1半导体区域中与栅极电极相隔，且在第2方向上延伸。第3绝缘部具有在第1方向上延伸的第1绝缘部分。第1绝缘部分在第2方向上位于栅极电极与第2绝缘部之间。第2电极设置在第2绝缘部及第3绝缘部之上，且与栅极电极电连接。

公开(公告)号：CN106486528A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610068979.5

申请日：2016-02-01

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 加藤浩朗 ,  西胁达也 ,  新井雅俊 ,  胜田浩明 ,  吉冈千香子 ,  鉾本吉孝

IPC: H01L29/40 ,  H01L29/423

Abstract: 根据一个实施方式，半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、导电层、栅极电极、以及第1电极。导电层具有第1部分、第2部分以及第3部分。第1部分设在第1区域之上。第1部分隔着第1绝缘部被第1半导体区域包围。第2部分在第2方向上延伸。第2部分设在第1半导体区域之上。第2部分位于第2区域之上。第3部分连接在第1部分与第2部分之间。第3部分在第3方向上延伸。第1电极与第3半导体区域以及导电层电连接。在第1电极与第3部分之间，连接有第2部分。

公开(公告)号：CN106449750B

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201610025310.8

申请日：2016-01-15

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 加藤浩朗 ,  新井雅俊 ,  吉冈千香子

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/08 ,  H01L29/10 ,  H01L29/40 ,  H01L21/336

Abstract: 一种半导体装置，具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的多个第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、绝缘部、第1电极、栅极电极以及第2电极。第2半导体区域具有第1部分。第3半导体区域与第1部分在第2方向上排列。绝缘部的一侧与第1部分相接。绝缘部的另一侧与第3半导体区域相接。第1电极以及栅极电极被绝缘部包围。第1电极的至少一部分被第1半导体区域包围。栅极电极与第1电极隔开间隔设置。栅极电极在第2方向上与第2半导体区域相面对。第2电极设置在第3半导体区域之上。第2电极与第1电极以及第3半导体区域电连接。

公开(公告)号：CN107833918A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201710377223.3

申请日：2017-05-25

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 下村纱矢 ,  加藤浩朗 ,  小林研也

IPC: H01L29/78

Abstract: 本发明的实施方式提供一种能够抑制寄生晶体管的动作的半导体装置。实施方式的半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、栅极电极、第1电极、第2绝缘部、第3绝缘部、及第2电极。栅极电极隔着第1绝缘部设置在第1半导体区域中及第2半导体区域中，且在第1方向上延伸。第1电极设置在第3半导体区域之上，且与第3半导体区域电连接。第2绝缘部在第1半导体区域中与栅极电极相隔，且在第2方向上延伸。第3绝缘部具有在第1方向上延伸的第1绝缘部分。第1绝缘部分在第2方向上位于栅极电极与第2绝缘部之间。第2电极设置在第2绝缘部及第3绝缘部之上，且与栅极电极电连接。

公开(公告)号：CN106449751A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201610111787.8

申请日：2016-02-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 西胁达也 ,  新井雅俊 ,  加藤浩朗 ,  胜田浩明 ,  吉冈千香子 ,  的场理惠子

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/423 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/76877 ,  H01L23/528 ,  H01L23/53295 ,  H01L29/4236 ,  H01L29/7813 ,  H01L29/42372 ,  H01L29/4238 ,  H01L29/66734

Abstract: 一种半导体装置及其制造方法。根据一个实施方式，半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、栅极电极、栅极布线、第2绝缘层以及第1电极。栅极布线具有第1部分和第2部分。第1部分在第3方向上延伸。第2部分被第1部分包围。第2部分在第3方向上延伸。第2部分在第1方向上的厚度比第1部分在第1方向上的厚度薄。第2绝缘层设在第2区域之上。第2绝缘层将第1部分覆盖。第1电极设在栅极布线之上以及第2绝缘层之上。第1电极与栅极布线相接。