公开(公告)号：CN112859534A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202011638382.2

申请日：2020-12-31

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  丁晨良 ,  魏震 ,  徐良

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。

公开(公告)号：CN112748510A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202110082913.2

申请日：2021-01-21

Applicant: 浙江大学 ,  之江实验室

Inventor： 周国尊 ,  匡翠方 ,  杨振宇 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: G02B7/36 ,  G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提出一种兼具自动调平功能的扫描式自动对焦方法及装置，该装置包括：激光光源，用于产生对焦光束；合束装置，用于将对焦光束与光学系统工作光束合束；扫描系统，通过改变对焦光束的角度，使对焦光斑在对焦平面上移动；聚焦系统，用于将对焦光束聚焦为在物镜后焦面的对焦光斑；共焦强度探测装置，用于将对焦光斑共焦成像，并探测像点位置的光强变化；反馈运动机构，用于将探测到的光强变化转化为相应的反馈控制信号，并根据信号驱动运动机构，带动对焦对象旋转或平移，完成自动调平和自动对焦。本发明通过扫描系统控制对焦光束扫描，实现了多点对焦。与现有对焦装置相比，增加了自动调平功能，极大的扩展了该装置的应用范围。

公开(公告)号：CN112666803A

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN202110048240.9

申请日：2021-01-14

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  丁晨良 ,  文仲 ,  徐良

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。

公开(公告)号：CN110568650B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201910853082.7

申请日：2019-09-10

Applicant: 浙江大学 ,  之江实验室

Inventor： 刘旭 ,  刘鑫 ,  郝翔 ,  匡翠方 ,  李海峰

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02B26/10

Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束；光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层，经反射层反射，第二次进入液晶层，经液晶层相位调制后，最终从第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块，而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制，这大大简化了光学成像和光刻系统的结构，并且由于使共路系统，其稳定性更好，本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力，光学效率较高。