一种氮化硅宽带光开关
    51.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113805398A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202111071403.1

    申请日:2021-09-14

    Inventor: 武爱民 李昂 仇超

    Abstract: 本发明涉及一种氮化硅宽带光开关,包括第一3dB非对称绝热耦合器、第二3dB非对称绝热耦合器、干涉臂波导、参考臂波导和热移相器;第一3dB非对称绝热耦合器和第二3dB非对称绝热耦合器结构相同,均包括依次连接的第一波导部分、耦合区域部分和第二波导部分,第一3dB非对称绝热耦合器的第二波导部分的第一端通过干涉臂波导与第二3dB非对称绝热耦合器的第二波导部分的第二端相连,第一3dB非对称绝热耦合器的第二波导部分的第二端通过参考臂波导与第二3dB非对称绝热耦合器的第二波导部分的第一端相连;干涉臂波导和参考臂波导为等长的氮化硅波导,干涉臂波导上设置有热移相器。本发明解决了氮化硅波导无法集成可调光衰减器等有源器件弥补开光消光比的问题。

    基于氮化硅光子晶体的光分路器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113359233A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110459989.2

    申请日:2021-04-27

    Abstract: 本发明提供一种基于氮化硅光子晶体的光分路器及其制备方法,该光分路器包括:自下而上依次设置的硅层、氧化硅层及氮化硅波导层;氮化硅波导层的中间部分形成有二维氮化硅光子晶体波导,两端分别形成有光栅发射器;二维氮化硅光子晶体波导包括一列沿氮化硅波导层长度方向呈周期性排布的圆形凹槽及中间部分氮化硅波导层;光栅发射器为半圆环形的同心环绕光栅且具有两个半圆环形镂空孔。采用氮化硅材料可应用的带宽大,且两个半圆环形镂空孔设计的氮化硅光栅光学损耗小,光出射效率高;另外,光分束器可实现对片外光波的收集同时对光波传输、分光形成片外出射光;最后,制备方法与CMOS工艺良好兼容,工艺简单,易于规模化生产。

    一种基于Y分支对称结构的硅基马赫曾德尔干涉仪

    公开(公告)号:CN112462469A

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN202011479959.X

    申请日:2020-12-15

    Abstract: 本发明涉及一种基于Y分支对称结构的硅基马赫曾德尔干涉仪,包括输入Y分支波导和输出Y分支波导,所述输入Y分支波导和输出Y分支波导的结构相同,所述输入Y分支波导的第一输出端通过第一直波导与输出Y分支波导的第一输入端相连;所述输入Y分支波导的第二输出端与第一弯曲波导的一端相连,所述输出Y分支波导的第二输入端与第二弯曲波导的一端相连,所述第一弯曲波导的另一端与所述第二弯曲波导的另一端通过所述第二直波导相连;所述第一弯曲波导与第二弯曲波导结构相同,并沿着第二直波导的中线对称。本发明能够使得波导长度在10μm到40μm变化时具有稳定的传输效率。

    一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构

    公开(公告)号:CN112255726A

    公开(公告)日:2021-01-22

    申请号:CN202011286995.4

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明涉及一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构,包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有两根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,当激光照射到硅导线时硅导线与衬底之间发生近场耦效应,且距离激光光源较近的一根硅导线完全抑制,距离激光光源较远的另一根硅导线保持亮度。本发明能够对某个特定角度的激光信号进行精确探测以及沿特定方向上进行非接触信号传输。

    偏振分束旋转器
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105785507A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201410829315.7

    申请日:2014-12-26

    Abstract: 本发明提供一种偏振分束旋转器,所述偏振分束旋转器至少包括:形成在SOI材料的顶层硅中的波导,至少包括顺次连接的单模输入波导、双刻蚀波导和非对称Y分支波导;双刻蚀波导包括一端与所述单模输入波导尾端相连接的第一刻蚀区和位于所述第一刻蚀区两侧的第二刻蚀区,第一刻蚀区的高度大于第二刻蚀区的高度;非对称Y分支波导包括根波导、第一分支波导和第二分支波导,根波导与第一刻蚀区的尾端相连,第一Y分支波导的宽度大于第二Y分支波导的宽度。由于双刻蚀波导的模式转换和非对称Y分支波导的模式分配是宽带的,本发明提供的偏振分束旋转器中利用了这两个基本结构的宽带特性,解决传统偏振分束旋转器带宽较窄的缺点。

    硅基光调制器
    58.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105629522A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201410620813.0

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明提供一种硅基光调制器,至少包括:脊型波导,所述脊型波导包括平板部和位于所述平板部中间的凸条,所述凸条高于所述平板部;所述脊型波导中形成有第一轻掺杂区和第二轻掺杂区,所述第一轻掺杂区形成于所述凸条中间,且沿所述凸条的延伸方向延伸;所述第二轻掺杂区形成于所述第一轻掺杂区两侧的凸条中和与所述凸条两侧相连的平板部中;所述第一轻掺杂区和所述第二轻掺杂区的掺杂类型相反。在本发明的技术方案中,在脊型波导的凸条内由第一轻掺杂区和第二轻掺杂区形成两个背对背的PN结,在硅基光调制器工作时可以形成两个耗尽区,弥补解决离子注入对准误差的问题,并且提高了硅基光调制器的调制效率。

    基于异质集成和垂直光耦合的硅基InGaAsPIN光电探测器

    公开(公告)号:CN102779892A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201110120147.0

    申请日:2011-05-10

    Abstract: 本发明公开了一种基于异质集成和垂直光耦合的硅基InGaAsPIN光电探测器,包括:SOI衬底;制作于SOI衬底顶层硅中的垂直耦合光栅;覆盖于垂直耦合光栅上的BCB键合层;位于BCB键合层之上的抗反射层;位于抗反射层之上的第一导电型磷化铟层;位于第一导电型磷化铟层之上的本征铟镓砷层;以及位于本征铟镓砷层之上的第二导电型磷化铟层;其中,垂直耦合光栅通过刻蚀SOI衬底的顶层硅制成,刻蚀深度为70-110nm;光栅周期为600-680nm;抗反射层的折射率介于BCB键合层与第一导电型磷化铟层之间。本发明的硅基InGaAsPIN光电探测器采用粘合性键合工艺将InP/InGaAs/InP叠堆材料层粘合于刻蚀在SOI衬底上的光栅上,使光与InP/InGaAs/InP层实现垂直耦合,为硅基InGaAs光电探测器的具体应用提供合适的设计及优化方案。

    一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构

    公开(公告)号:CN213659006U

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202022656133.8

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本实用新型涉及一种对特定方向激光光束敏感的微纳结构,包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有两根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,当激光照射到硅导线时硅导线与衬底之间发生近场耦效应,且距离激光光源较近的一根硅导线完全抑制,距离激光光源较远的另一根硅导线保持亮度。本实用新型能够对某个特定角度的激光信号进行精确探测以及沿特定方向上进行非接触信号传输。

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