一种偏振转换装置
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104793344A

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201510229681.3

    申请日:2015-05-07

    IPC分类号: G02B27/28 G03F7/20

    CPC分类号: G02B27/286 G03F7/70008

    摘要: 本发明公开了一种偏振转换装置,解决了高NA光刻技术中光束由X偏振光或Y偏振光转换为XY偏振光和YX偏振光问题,所述偏振转换装置由两块二分之一波片、两片熔石英基片拼接并深度光胶在熔石英基底上构成。每块二分之一波片和熔石英基片中心角为90度,且每块二分之一波片和熔石英基片的厚度相同。二分之一波片和熔石英基片交替排列,且二分之一波片和熔石英基片拼接成正方向,二分之一波片快轴方向与X轴呈45度或135度。该偏振转换具有机械稳定性好、加工难度小、转换精度高、成本低等优点。

    一种光刻机中照明全系统及各组件透过率的测量方法

    公开(公告)号:CN103345129B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201310279661.8

    申请日:2013-07-04

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种光刻机中照明全系统及各组件透过率测量方法,测量装置包括光源,能量衰减装置,光路分离元件,待测光学元件,光束接收与探测单元,数据处理和控制系统。实现步骤:用分光镜将准分子激光光源的光束分为测试光路和参考光路;用示波器记录多组测试光路和参考光路的光电探测器输出电压数据,采用分别将相邻两次测量结果进行数据处理,最后将整组数据求和平均的方法求出待测光学组件的透过率。采用本发明方法测量光刻机中照明全系统及各组件的透过率,具有较高的测量精度和测量多功能性。

    一种光刻机中照明全系统及各组件透过率的测量方法

    公开(公告)号:CN103345129A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310279661.8

    申请日:2013-07-04

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种光刻机中照明全系统及各组件透过率测量方法,测量装置包括光源,能量衰减装置,光路分离元件,待测光学元件,光束接收与探测单元,数据处理和控制系统。实现步骤:用分光镜将准分子激光光源的光束分为测试光路和参考光路;用示波器记录多组测试光路和参考光路的光电探测器输出电压数据,采用分别将相邻两次测量结果进行数据处理,最后将整组数据求和平均的方法求出待测光学组件的透过率。采用本发明方法测量光刻机中照明全系统及各组件的透过率,具有较高的测量精度和测量多功能性。

    一种光瞳均匀性补偿装置
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102331688B

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201110327838.8

    申请日:2011-10-25

    IPC分类号: G03F7/20 G02B27/09

    摘要: 本发明是一种光瞳均匀性补偿装置,包括侧壁和多个补偿单元,每个补偿单元包括第一驱动器、第一驱动机构、第一遮光组件和第二遮光组件;其中:在侧壁上设置有多个导轨槽;多个补偿单元沿着侧壁外侧均匀分布,且第一遮光组件位于第一驱动器的和第二遮光组件之间,第一遮光组件和第二遮光组件的另一端穿过导轨槽并伸入照明系统的照明光束外延中,补偿单元中的第一遮光组件和第二遮光组件可在第一驱动器和第一驱动机构的驱动下,沿着导轨槽方向即光轴方向独立运动。改变第一遮光组件和第二遮光组件与光瞳共轭面之间的距离。

    一种光束传输稳定装置
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102566318A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201210030456.3

    申请日:2012-02-12

    IPC分类号: G03F7/20 G02B26/08

    摘要: 本发明提供一种光束传输稳定装置,用于将激光器发射光束传输到照明系统,在所述传输光路上放置光束控制模块,光束控制模块包括第一光束控制单元(41)、第二光束控制单元(42)、第三光束控制单元(43);在光束控制模块的出射光路上放置分光镜(44),分光镜(44)将光束分成两束,一束光束进入照明系统(5),另一束光束进入光束测量模块(45),光束测量模块(45)与控制器(46)相连,用于向控制器(46)提供测量数据,控制器(46)与光束控制模块的第一光束控制单元(41)、第二光束控制单元(42)、第三光束控制单元(43)相连,用于向光束控制模块提供控制信号,实现同时对光束位置偏差和指向偏差进行调节。

    一种光瞳均匀性补偿装置
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102331688A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201110327838.8

    申请日:2011-10-25

    IPC分类号: G03F7/20 G02B27/09

    摘要: 本发明是一种光瞳均匀性补偿装置,包括侧壁和多个补偿单元,每个补偿单元包括第一驱动器、第一驱动机构、第一遮光组件和第二遮光组件;其中:在侧壁上设置有多个导轨槽;多个补偿单元沿着侧壁外侧均匀分布,且第一遮光组件位于第一驱动器的和第二遮光组件之间,第一遮光组件和第二遮光组件的另一端穿过导轨槽并伸入照明系统的照明光束外延中,补偿单元中的第一遮光组件和第二遮光组件可在第一驱动器和第一驱动机构的驱动下,沿着导轨槽方向即光轴方向独立运动。改变第一遮光组件和第二遮光组件与光瞳共轭面之间的距离。

    一种光学元件的装调对准装置
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113933950A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202111250161.2

    申请日:2021-10-26

    IPC分类号: G02B7/00

    摘要: 本发明公开了一种光学元件的装调对准装置,包括基准镜框、调节镜框、五组调节螺钉组件、紧固螺钉和垫片。在基准镜框平行的平面内的两个正交方向上分别布置两组和三组调节螺钉组件,基准镜框和调节镜框上都安装有精密光学元件,在安装调节过程中,基准镜框作为基准固定,利用调节螺钉改变调节镜框相对于基准镜框的位置,实现光学元件的中心对准和方位对准,通过调节垫片的厚度实现光学元件的间隔和平行对准。

    一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN109657402B

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN201910011353.4

    申请日:2019-01-07

    IPC分类号: G06F30/20

    摘要: 本发明公开了一种光强分布的的建模方法,应用于光刻照明均匀性补偿技术领域,包括:获取输入参数,输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,根据视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,确定补偿平面的光强分布,根据补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定视场面的输出光强分布。本发明还公开了一种光强分布的建模装置、电子设备及存储介质,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。

    一种光刻机照明视场光强分布测量控制方法

    公开(公告)号:CN110361939A

    公开(公告)日:2019-10-22

    申请号:CN201910148755.9

    申请日:2019-02-28

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种光刻机照明视场光强分布测量控制方法,该方法主要应用于运动台带动点能量传感器对光刻机照明视场内各点的光强进行测量的装置中。测量装置中运动台连续运动,通过光刻机曝光光源输出的激光同步信号控制采集系统采集激光光强,同时记录运动台瞬时位置坐标。该控制算法即解决了传感器阵列不能对大视场光强分布的一次成像问题,又实现了通过点能量传感器对光强分布的快速扫描。

    一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN109657402A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201910011353.4

    申请日:2019-01-07

    IPC分类号: G06F17/50

    摘要: 本发明公开了一种光强分布的建模方法,应用于光刻照明均匀性补偿技术领域,包括:获取输入参数,输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,根据视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,确定补偿平面的光强分布,根据补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定视场面的输出光强分布。本发明还公开了一种光强分布的建模装置、电子设备及存储介质,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。