公开(公告)号：CN110325357B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201880013135.8

申请日：2018-03-06

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 孙政佑 ,  章盛皓 ,  宋真淑 ,  黄智泳 ,  金起焕 ,  金容赞 ,  徐汉珉 ,  曺弼盛

IPC: B32B7/023 ,  B32B3/26 ,  B32B3/30 ,  B32B15/04 ,  B32B33/00

公开(公告)号：CN113811800A

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：CN202080035198.0

申请日：2020-08-20

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金荣振 ,  朴均徒 ,  金到炫 ,  李大熙 ,  裵成学 ,  徐汉珉

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 根据本申请的一个示例性实施方案的偏光板层合体包括：偏振器；设置在偏振器上的粘合剂层或粘结剂层；设置在粘合剂层或粘结剂层上的视角补偿膜；和设置在视角补偿膜上的基础膜。

公开(公告)号：CN108351605B

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201780003811.9

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裵南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/033 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法、以及使用所述膜掩模形成的图案，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在所述透明基板的设置有暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部。

公开(公告)号：CN108351604B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201780003800.0

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 ,  徐汉珉 ,  韩尚澈 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  徐大韩 ,  裵南锡 ,  宋民守

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模；该膜掩模的制备方法；使用该膜掩模的图案形成方法；以及由该膜掩模制备的图案，所述膜掩模包括：透明基板、设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层、以及在未设置暗化光屏蔽图案层的区域中设置的凹槽部。

公开(公告)号：CN107750354B

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201680034819.7

申请日：2016-06-14

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  李承宪

IPC: G06F3/044

Abstract: 本申请涉及一种触摸传感器及其制造方法，根据本申请的触摸传感器包括：基板；以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元分别包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案。

公开(公告)号：CN111033377A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880051202.5

申请日：2018-08-14

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  李承宪 ,  黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  朴镇宇 ,  柳正善

IPC: G03F1/58 ,  G03F1/60 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请提供了基板及其生产方法。本申请可以在具有包括依次形成的基础层、黑层和间隔物的结构的基板中提供具有优异的所述间隔物对所述基础层或所述黑层的粘合性且确保适当的暗化特性的基板，并且还可以提供能够在没有单独处理例如热处理的情况下有效地生产这样的基板而没有不利影响例如出现异物的生产方法。

公开(公告)号：CN111033372A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880050289.4

申请日：2018-07-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  崔贤 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1333

Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中，复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上，使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时，可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

公开(公告)号：CN110959135A

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201880048881.0

申请日：2018-07-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  黄智泳 ,  徐汉珉 ,  朴圣恩 ,  裴南锡 ,  李承宪 ,  柳正善

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，可以呈现能够形成其中确保期望的暗化的高段差间隔物的结构。

公开(公告)号：CN108351603A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201780003799.1

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裵南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  朴赞亨 ,  金起焕 ,  李一翻

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/033

CPC classification number: G03F7/20 ,  H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法和使用该膜掩模的图案形成方法，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及设置在所述暗化光屏蔽图案层上的表面能为30达因/cm以下的剥离力增强层。