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公开(公告)号：CN106796018A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201480081540.5
申请日：2014-09-30
IPC: F21V8/00 , F21K9/61 , F21Y115/10
CPC classification number: F21K9/61 , F21K9/232 , F21K9/235 , F21K9/69 , F21Y2103/33 , F21Y2115/10
Abstract: 实施方式的光学元件，由相对于可见光透明的材料形成，并具有相对于中心轴为旋转对称的形状。在光学元件的内部设置有不存在透明的材料的空孔。空孔的内面具有如下形状：包含中心轴的平面与该内面相交叉的空孔的边界线包括朝向光学元件的外侧鼓出的曲线部分。另外，当在所述空孔内取原点、将相对于该原点沿所述边界线顺时针行进的方向设为正方向、取所述边界线上的第1点处的第1切线矢量并取相对于所述第1点在正方向上相邻的第2点处的第2切线矢量时，该第2切线矢量相对于所述第1切线矢量的、以所述顺指针为正时所成的角总在0度以上，空孔的内面不包含向内侧凹陷的面。
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公开(公告)号：CN106103801A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201480076969.5
申请日：2014-09-12
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G02B19/0028 , B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B29C64/153 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/255 , B29C64/264 , B29C64/268 , B29C64/321 , B29C64/393 , B29K2105/251 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , C23C24/10 , G02B19/0047 , Y02P10/295
Abstract: 实施方式的光照射装置是层压造形装置用的。光照射装置具备聚光部及功能部。聚光部将多个第一光束聚光。功能部的至少一部分位于多个第一光束之间或者被多个第一光束包围的位置。
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公开(公告)号：CN104583671A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043660.1
申请日：2013-09-12
IPC: F21V8/00 , F21Y101/02
CPC classification number: F21V9/30 , F21K9/61 , F21K9/64 , F21V29/89 , H01L33/507 , H01L33/54 , H01L33/60
Abstract: 实施方式的白色LED照明装置具备：LED光源(11)，发出紫外光区域或可见光区域的光；轴对称透明部件(12)，对可见光透明，覆盖所述LED光源地设置；以及轴对称光散射部件(13)，与所述LED光源分离地配置在所述轴对称透明部件的内部。LED光源与所述轴对称光散射部件的最接近距离L2、和所述LED光源的所述发光面的面积C满足规定的关系，所述轴对称光散射部件的长度L1和所述轴对称光散射部件的吸收系数μ(1/mm)满足规定的关系，所述轴对称光散射部件的底面直径d1、所述最接近距离L2以及所述轴对称透明部件的折射率n满足规定的关系。
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公开(公告)号：CN102403205A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110266383.3
申请日：2011-09-08
Applicant: 株式会社东芝
Inventor： 大野博司
IPC: H01L21/268
CPC classification number: H01L21/2686 , H01L21/324 , Y10S977/89
Abstract: 本发明的半导体装置的制造方法，包括下列步骤：对于形成有半导体集成电路的图案(30、40)的基板，将对用于退火而照射的光的吸收率为规定以下的区域定义为疏图案区域(100)，并在疏图案区域(100)上局部形成用于提高光吸收率的薄膜(60)。之后对形成有半导体集成电路图案(30、40)和薄膜(60)的基板照射光以进行退火。这样，不需要光源侧的微细的调整和改良，即可防止光退火时半导体集成电路中产生的温度不均导致的电路的劣化，提高半导体集成电路的性能。
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公开(公告)号：CN118688099A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311162750.4
申请日：2023-09-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝情报系统株式会社
Abstract: 本发明的实施方式涉及光学检查方法、存储有光学检查程序的存储介质以及光学检查装置。提供能够获取物体的信息的光学检查方法。根据实施方式，光学检查方法包括：利用波长选择部选择性地使来自物点的包括至少两个不同的波长谱的光通过，利用具有能够接受波长谱的光的至少两个颜色通道的拍摄部对物点进行拍摄；基于针对物点的至少两个颜色通道中的受光数据，使至少两个不同的波长谱的光成为分别具有不同的方向的信号向量；以及基于信号向量的方向，对物点处的光的方向分布的离散度进行推定处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118687505A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311433930.1
申请日：2023-10-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01B11/25
Abstract: 本实施方式提供一种光学检查方法以及存储介质、以及光学检查装置，光学检查方法具备：将明暗周期性地变化的第1基本调制模式的第1图案光投影于物体；对投影有第1图案光的物体进行摄像而获取第1图像；将明暗相对于第1基本调制模式反转的第1反转调制模式的第2图案光投影于物体；对投影有第2图案光的物体进行摄像而获取第2图像；以及生成至少基于第1图像和第2图像抽取的强调了进行特异的光散射的特异区域的特异光散射图像。
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公开(公告)号：CN114364979B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202080059865.9
申请日：2020-05-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 实施方式的非接触非破坏检查系统具备传感器、速度检测部以及损伤检测部。传感器检测起因于在检查对象物中传播的第1弹性波而向围绕所述检查对象物的介质发射的第2弹性波。速度检测部根据所述第2弹性波的波阵面角度和所述第2弹性波的速度检测所述第1弹性波的速度。损伤检测部基于所述第1弹性波的速度检测所述检查对象物的损伤。
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公开(公告)号：CN116818657A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202211060742.4
申请日：2022-08-31
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本公开涉及光学检查方法、光学检查程序、处理装置以及光学检查装置。提供一种获取物体表面的信息的光学检查方法。在实施方式的光学检查方法中，使用通过了选择性地使来自物体表面的互不相同的多个预定波长的光通过的波长选择部的光，用具有区分地接收多个预定波长的光的颜色通道的图像传感器进行摄像以获取图像，进行推定在图像的各像素接收到光的颜色通道的通道数量作为颜色数量的颜色数量推定处理，基于颜色数量，进行识别来自物体表面的散射光分布(BRDF)的散射光分布识别处理或者识别物体表面的状态的表面状态识别处理中的至少一方的处理。
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公开(公告)号：CN114364979A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080059865.9
申请日：2020-05-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 实施方式的非接触非破坏检查系统具备传感器、速度检测部以及损伤检测部。传感器检测起因于在检查对象物中传播的第1弹性波而向围绕所述检查对象物的介质发射的第2弹性波。速度检测部根据所述第2弹性波的波阵面角度和所述第2弹性波的速度检测所述第1弹性波的速度。损伤检测部基于所述第1弹性波的速度检测所述检查对象物的损伤。
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公开(公告)号：CN106796018B
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201480081540.5
申请日：2014-09-30
IPC: F21V8/00 , F21K9/61 , F21Y115/10
Abstract: 实施方式的光学元件，由相对于可见光透明的材料形成，并具有相对于中心轴为旋转对称的形状。在光学元件的内部设置有不存在透明的材料的空孔。空孔的内面具有如下形状：包含中心轴的平面与该内面相交叉的空孔的边界线包括朝向光学元件的外侧鼓出的曲线部分。另外，当在所述空孔内取原点、将相对于该原点沿所述边界线顺时针行进的方向设为正方向、取所述边界线上的第1点处的第1切线矢量并取相对于所述第1点在正方向上相邻的第2点处的第2切线矢量时，该第2切线矢量相对于所述第1切线矢量的、以所述顺指针为正时所成的角总在0度以上，空孔的内面不包含向内侧凹陷的面。
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