一种高精度电容薄膜真空计

    公开(公告)号:CN112834110A

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN202011604898.5

    申请日:2020-12-30

    Abstract: 本发明提供了一种高精度电容薄膜真空计,包括:壳体,具有一容置腔;两个感应膜片,平行地设置在所述容置腔中,并把所述容置腔分隔为参考真空室和两个待测腔室,且两个所述待测腔室分别位于所述参考真空室的两侧;两个所述待测腔室之间连通,且均与所述参考真空室隔离;连接管,与其中一个待测腔室连通;固定基板,设在所述参考真空室中并与两个所述感应膜片平行;固定基板的两侧分别设置有导电膜,所述固定基板两侧的导电膜分别与相邻的感应膜片组成电容器;该电容薄膜真空计的测量精度和灵敏度较高。

    一种多片装载的碳化硅外延生长设备

    公开(公告)号:CN111088526B

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201911379938.8

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种多片装载的碳化硅外延生长设备,包括基座,设置在基座上的反应室,设置在反应室左侧的进气机构,设置在反应室右侧的出气机构,设置在反应室底部的加热线圈,可转动地设置在反应室中部的托盘架,以及用于驱动托盘架转动的驱动机构;所述托盘架包括一根竖直的旋转杆,以及多个水平地串接在旋转杆上的石墨托盘;每个石墨托盘上表面均匀设置有多个用于放置衬底的定位凹槽。该碳化硅外延生长设备可一次生产多个外延片且结构紧凑、节能环保。

    一种碳化硅外延生长设备的进气装置

    公开(公告)号:CN111020693B

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN201911379922.7

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种碳化硅外延生长设备的进气装置,包括进气装置主体,进气装置主体的前部设置有混合腔、后部设置有冷却腔;混合腔的前侧设置有进气管、后侧设置有多根出气管,出气管穿过所述冷却腔;还包括插接在进气装置主体前部并与冷却腔连通的冷却液入口管和冷却液出口管,以及多根穿设在进气装置主体上、下部的吹扫管;所述进气装置主体的后部穿过碳化硅外延生长设备的过渡区域。该进气装置可抑制反应气体的预反应。

    一种可变角度变径磁过滤阴极电弧薄膜沉积设备和方法

    公开(公告)号:CN111748777A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010514554.9

    申请日:2020-06-08

    Abstract: 本发明提供一种可变角度变径磁过滤阴极电弧薄膜沉积设备和方法,包括阴极电弧生成系统、等离子传输系统、真空镀膜腔体以及电源;阴极电弧生成系统包括电弧生成器和靶材;等离子传输系统包括变径磁过滤管道、电磁线圈以及扫描电磁线圈,电磁线圈绕设在所述变径磁过滤管道的外部,变径磁过滤管道为两头大中间小的双喇叭型。本发明通过设置在阴极电弧沉积设备中设计两头大中间小的双喇叭型的变径磁过滤管道,配合绕设在变径磁过滤管道上的电磁线圈,聚焦和偏斜电磁场可以向着基板导向等离子流,而不受电磁场影响的中性宏观粒子则继续从阴极沿着直线行进从而被过滤,通过简洁的磁过滤管道的设计,可以得到致密的均匀的阴极电弧薄膜。

    旋转承载盘结构及承载盘
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111719141A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010554568.3

    申请日:2020-06-17

    Abstract: 旋转承载盘结构及承载盘,涉及化学气相沉积技术领域,旋转承载盘结构,应用于化学气相沉积工艺,包括旋转轴、用于承载衬底的承载盘,旋转轴与承载盘中心连接,以驱动承载盘旋转,旋转轴包括轴体、隔热件,隔热件设在轴体与承载盘之间,以隔开轴体与承载盘,使轴体与承载盘不接触。承载盘,应用于化学气相沉积工艺,用于承载衬底,用于给所述承载盘加热的热源位于所述承载盘下方,所述承载盘的底面为非平面,以使承载盘底面不同区域与热源的距离不同。

    一种在线更换式无间断输出电源

    公开(公告)号:CN111614152A

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN201910131750.5

    申请日:2019-02-22

    Abstract: 本发明公开了一种在线更换式无间断输出电源,其包括有主板以及插接于主板的多个电源模块,多个电源模块的输出功率之和作为无间断输出电源的总输出功率,主板包括有:报警系统;实时反馈和诊断系统,用于实时监测多个电源模块的工作参数数据,并且当电源模块的任一工作参数达到预设报警值时,通过报警系统发出报警提示;模块切换系统,用于根据实时反馈和诊断系统的监测结果控制电源模块的功率输出状态,并且当电源模块的任一工作参数达到预设报警值时,控制该电源模块停止功率输出,同时调整其他电源模块的输出功率,以令其他电源模块的输出功率之和保持在总输出功率。本发明实现了在线更换电源模块以及无间断功率输出。

    一种新型磁控溅射阴极
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111172504A

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201911382863.9

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种新型磁控溅射阴极,包括靶材、第一磁体结构和第二磁体结构;第一磁体结构产生第一磁力线回路,形成第一磁场;第二磁体结构产生第二磁力线回路,形成第二磁场;当启动溅射时,第一磁场作用使靶材位于第一磁力线回路内的区域形成第一等离子区,第二磁场作用使靶材位于第二磁力线回路内的区域形成第二等离子区,实现溅射;第二等离子区和第一等离子区叠加区域不完全重合;通过在第一磁体结构的基础上叠加第二磁体结构,可以增大靶材的溅射使用面积,溅射靶材的溅射后表面形态可以由V形变成U形,靶材的利用率可以从传统的20~25%增加到30~35%,提高靶材的利用率。

    离子源
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111161987A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201911382854.X

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供一种离子源,包括:一阴极壳体,其包括底壁、顶壁以及连接底壁和顶壁的侧壁,所述底壁、顶壁以及侧壁围成一容纳空间,所述顶壁上开设有呈迂回曲折延伸的开口,壳体上设置有电极以及一通气孔;一阴极板条,其与所述开口的形状适配,阴极板条设置于所述开口处并沿着所述开口迂回曲折延伸,阴极板条的外侧缘与所述开口的内侧缘间隔预设距离以形成迂回曲折延伸的狭缝;一阳极,其设置于所述壳体内并位于狭缝正对,所述阳极沿着所述狭缝的延伸方向迂回曲折延伸;一永磁体,其设置于所述容纳空间内并位于所述阴极板条相对,所述永磁体沿着所述阴极板条的延伸方向迂回曲折延伸。本发明实施例提供的离子源可以提高离子源的效率,节省空间。

    一种快速降压的压力容器
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111134526A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911382860.5

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种快速降压的压力容器,包括内胆以及热电制冷电偶,热电制冷电偶包括冷端面和热端面,所述热电制冷电偶的冷端面与内胆的外侧壁面贴合,热电制冷电偶通电后冷端面将从内胆上快速吸收热量并通过热端面向四周环境放热;本技术方案通过在内胆的外壁上设置热电制冷电偶,能实现快速的冷却降压,有助于加热完成后快速开盖;本技术方案的冷却降压过程无需排气,不会造成容器内液体或流质随排气过程喷出而污染器具或环境;热电制冷电偶布置在内胆的外壁上,不破坏整体密封性,不会带来漏气漏液风险;本快速降压的压力容器的冷却降压速度快,通电后即可开始恒定功率的制冷,操作简单方便。

    一种喷射强化散热器
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111132514A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201911379939.2

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种喷射强化散热器,包括上侧开口的喷射控制腔,盖设在喷射控制腔上侧开口处的散热基板,设置在喷射控制腔内下部的喷射装置,以及用于向喷射装置输送高压冷却液的高压输送装置;喷射装置用于使高压冷却液朝上喷出形成高压喷雾;所述散热基板的上表面用于布置发热元件。该散热器能够有效地对高流量密度发热元件散热,且结构较简单,制造难度低,加工成本低。

Patent Agency Ranking