公开(公告)号：CN113985707A

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN202111241114.1

申请日：2021-10-25

Applicant: 之江实验室

Inventor： 匡翠方 ,  丁晨良 ,  杨臻垚 ,  孙秋媛 ,  杨顺华 ,  徐良 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种可控脉冲展宽与延时的超分辨激光直写装置及方法，该装置包括飞秒激光光源、二分之一波片、偏振分光棱镜、脉冲展宽器、能量调制器、相位板、直角棱镜、反射镜等部件。本发明将飞秒光源出射的飞秒光束分成两束光，对其中一束进行脉冲展宽与光强分布的调制，然后将两束光合束后入射到刻写系统，实现同波长的基于边缘光抑制的激光刻写。利用本发明的装置可以得到一束强度分布为高斯的飞秒光束和一束可调脉冲宽度、可调光强分布的光束，并且可以通过调控光程来精细调控分束后的两个光束达到刻写样品上的时间，精度可达皮秒量级，可用于高精度激光直写光刻系统。

公开(公告)号：CN112859534A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202011638382.2

申请日：2020-12-31

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  丁晨良 ,  魏震 ,  徐良

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。

公开(公告)号：CN112666803A

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN202110048240.9

申请日：2021-01-14

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  丁晨良 ,  文仲 ,  徐良

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。