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公开(公告)号：CN113189709A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110419670.7
申请日：2021-04-19
Abstract: 本发明公开了一种用于光纤阵列的输入光信号发生装置及光刻系统，基于空间光调制器、数字微镜装置、微透镜阵列等光学元器件构成。本发明通过空间光调制器将入射的单束激光束调制成多光束阵列，然后通过数字微镜装置将光束阵列中任意子光束反射至微透镜阵列中的一个对应的微透镜中，每个子光束通过微透镜聚焦后入射到光纤阵列中的一根光纤中。通过对数字微镜装置的编程控制，可实现对光纤阵列中每一路输入光信号通断的高速切换。本发明可有效利用光源功率进行多路光分束并耦合进光纤阵列，并可实现光纤阵列中每根光纤独立可控的高速光开关信号输入。本发明可作为关键性器件被应用于基于光纤的通信、传感、成像、光学微加工等领域。
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公开(公告)号：CN112705856A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202011600782.4
申请日：2020-12-30
IPC: B23K26/362 , B23K26/40 , B23K26/70 , B23K101/36
Abstract: 本发明提供一种适用于双光束激光直写的三维模型解析规划方法、装置及设备，所述三维模型解析规划方法是针对以三角形面构成的STL格式的三维模型，将STL格式三维模型进行读取解析，同时进行拓扑重构；将导入的STL模型进行高度划分；而后进行等厚切片，对于模型进行分层切割即可生成一系列的顶点；后续通过存储STL格式三维模型的拓扑信息进行轮廓拼接将这些顶点生成一系列轮廓；进行轮廓的填充区域和非填充区域的标记；最后依据不同的扫描线算法进行路径规划，最终实现了在所述双光束激光直写平台上较好的三维光刻效果，并能实现参数调整产生不同特征的三维光刻结果。
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公开(公告)号：CN111538164A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010654713.5
申请日：2020-07-09
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于数字微镜器件的空心光斑阵列并行调控装置，该装置利用空间光调制器对入射光束进相位调制，形成空心光斑阵列成像到数字微镜器件上，随后经过第四透镜与物镜，最终在样品材料上形成空心光斑阵列。本发明可以通过空间光调制器生成高质量的空心光斑阵列，利用数字微镜器件对阵列中每个单独的空心光斑实现快速地开关，从而控制样品材料处空心光斑阵列图案。本发明利用数字微镜器件的快速调制特点，结合空间光调制器在产生空心光斑阵列质量上的优势，可以为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供可高速独立调控的空心光斑阵列，推动高速、纳米尺度三维光刻的发展。
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公开(公告)号：CN110568650A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910853082.7
申请日：2019-09-10
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02B26/10
Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束；光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层，经反射层反射，第二次进入液晶层，经液晶层相位调制后，最终从第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块，而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制，这大大简化了光学成像和光刻系统的结构，并且由于使共路系统，其稳定性更好，本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力，光学效率较高。
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公开(公告)号：CN118244445B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116540504B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN114442257B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202210087665.5
申请日：2022-01-25
Abstract: 本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置，入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片，形成第一光束；第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面，而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射，依次经过物镜与四分之一波片后，被偏振分束镜反射到另一侧，形成第二光束；第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束；第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后，入射到所述四象限探测器的探测面上；第四光束经过所述透镜和针孔后，入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比，既可以保证高精度，又极大的扩展了焦面跟踪的范围。
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公开(公告)号：CN116481983B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202310461722.6
申请日：2023-04-26
IPC: G01N15/0227 , G01N15/0205 , G01N21/45 , G01N21/85 , G02B21/00 , G02B21/06 , G02B21/18 , G02B21/36
Abstract: 一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置，包括连续激光器、多个透镜、空间滤波器、波片、一个偏振分束镜、功率计、物镜、样品台、和多个反射镜，连续激光器的激光经一组透镜扩束准直并空间滤波后进入1/2波片，进行偏振方向调节。调节后的偏振光进入偏振分束棱镜将激光分为P光与S光，S光经物镜后宽场照明样品，颗粒散射光与反射光经物镜收集后进入偏振分束棱镜，该S光在偏振分束棱镜出射口形成部分正交偏振。本发明还提供一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置的成像方法。本发明通过S光偏振照明并结合正交偏振原理，有效抑制背景反射光，提高了信号对比度；同时，结合干涉散射显微成像信号增强的优势，实现对样品表面小尺寸颗粒极弱信号的高信噪比检测。
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公开(公告)号：CN113985708B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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公开(公告)号：CN114019764B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202111240495.1
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种超分辨激光直写与成像方法与装置，该装置包括三个光源，分别为引发光刻胶产生聚合反应的激发光光源，激发光刻胶中发光的荧光染料分子从基态到激发态的激发光，抑制光刻胶聚合并同时使荧光染料分子产生受激辐射的抑制光光源或损耗光光源，抑制光与损耗光为同一个光源。其中，引发光刻胶聚合的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚成圆形实心光斑；抑制光经过准直后，再通过相位掩膜调制相位，最后由物镜汇聚到样品面上形成环形空心光斑；光刻胶中荧光染料的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚形成圆形实心光斑。本发明可以实现纳米结构刻写完成后直接的光学成像，无需进行电镜成像，使操作更为简单。
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