一种相位调制器的半波电压测量方法和测试系统

    公开(公告)号:CN111025000A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201911344557.6

    申请日:2019-12-24

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种相位调制器的半波电压测量方法和测试系统,测量方法的步骤依次为产生两束功率相同的激光;将两束激光耦合为一束光信号,并将该光信号输入待测的相位调制器;待测的相位调制器对光信号进行调制,将调制后的光信号进行密集波分复用技术处理,输出完好的的载波和一阶边带信号;将经过密集波分复用技术处理的光信号转换为电信号,并得到对应的电谱图和功率参数,根据功率参数计算半波电压。本发明通过数值计算的测量方法,能够有效提高测量精度;同时,本发明设计的测试系统光路结构简单,易于搭建,系统稳定,从而降低了测量成本。

    一种具有内部散热通道的光模块组件级复合散热结构

    公开(公告)号:CN104793300A

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201510218932.8

    申请日:2015-04-30

    Applicant: 东南大学

    CPC classification number: G02B6/4269

    Abstract: 本发明公开了一种具有内部散热通道的光模块组件级复合散热结构,包括光模块封装外壳、模块顶部散热片、TOSA发射组件、ROSA接收组件、内部电路板,所述TOSA发射组件和ROSA接收组件固定安装在内部电路板上,所述TOSA发射组件和ROSA接收组件的上方均设置有导热垫,所述导热垫的上表面和光模块封装外壳紧密接触,所述光模块封装外壳下表面和外部大PCB板连接。本发明的优点是:在光模块内部设置了具体的上下两条散热通道,增加了散热路径,内部组件产生的热量能快速通过导热单元向上向下传递到外界环境,和现有技术相比散热效果更优。

    刻蚀高深度光波导的制备工艺

    公开(公告)号:CN102866458B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201210296470.8

    申请日:2012-08-20

    Abstract: 一种刻蚀高深度光波导的制备工艺,包括以下步骤:1)用沉积法,在衬底上制备掺杂的芯层,形成平板光波导;2)用光刻工艺,在步骤1)制取的平板光波导上获得与掩模版图形相反的光刻胶掩模;3)用溅射工艺,在步骤2)获取的样品表面制备金属掩模;4)清洗去除与掩模版图形相反的光刻胶掩模及金属掩模;5)用光刻工艺,在步骤4)制作的金属掩模层上,再增加与金属掩模层具有相同图形的光刻胶层;6)使用RIE设备,通入SF4、CHF3、O2、He气体,制作光波导芯层;7)制作上包层。与标准工艺相比,这种方法可利用普通反应离子刻蚀设备制作高深度光波导,且制作的光波导具有垂直的侧壁,侧壁角度大于87度,小于93度。

    一种共面电磁带隙曲折线微波慢波结构

    公开(公告)号:CN103035460A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210592593.6

    申请日:2012-12-31

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种共面电磁带隙曲折线微波慢波结构,包括:介质基板,在介质基板上设有电磁带隙结构,所述电磁带隙结构是由呈周期排列的金属贴片构成的两维电磁带隙结构,通过平面曲折线结构连接金属贴片,且连接两金属贴片之间的平面曲折线应具有对称性。该结构利用电磁带隙在导带内导波,在禁带内禁波的特性,降低了基模的传输损耗,提高了慢波结构的耦合阻抗;可有效抑制返波振荡,提高了基模的耦合效率。同时,该结构可采用现有的微电路刻蚀技术直接在基板材料上制作相应结构,工艺简单。由于采用该结构,可有效抑制返波振荡,因此避免了采用集中衰减器带来的工艺复杂、降低基模耦合效率的缺点。

    基于空分复用的分布式干涉型光纤麦克风阵列装置

    公开(公告)号:CN101945320B

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201010224955.7

    申请日:2010-07-13

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种基于空分复用的分布式干涉型光纤麦克风阵列装置是一种成本低廉,光源驱动电路简单,稳定性高的麦克风阵列,其中,红光LED(1)、隔离器(2)、1X2耦合器(3)顺序串联连接,1X2耦合器(3)的第一输出端接2X1耦合器(4)的第一输入端,1X2耦合器(3)的第二输出端通过第一光电转换电路(7)接信号处理及解复用模块(10);拾音探头阵列(6)、光开关驱动模块(9)通过光开关(5)与2X1耦合器(4)的第二输入端相接,2X1耦合器(4)的输出端通过第二光电转换电路(8)接信号处理及解复用模块(10),信号处理及解复用模块(10)的输出分两部分,其中一路输出同步信号接光开关驱动模块(9),另一路输出音频信号。

    偏振保持平面光波光路及制备方法

    公开(公告)号:CN102890308A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210297039.5

    申请日:2012-08-20

    Abstract: 本发明涉及偏振保持平面光波光路及制备方法,属于集成光电子器件技术领域。偏振保持平面光波光路结构包括衬底、缓冲层、芯层和覆盖层,在缓冲层内设有折射率不同于的第一柱体阵列;或者在覆盖层内设有第二柱体阵列。所述柱体阵列由平行排列的柱体构成,该结构可以为空心玻璃毛细管、实心玻璃毛细管、空心方形柱或者实心方形柱,由此结构构成的平面光波光路具有高双折射效应,可有效地解决在平面光波光路中传输光波偏振相关问题。本发明易于实现,工艺成熟和半导体工艺兼容性好,为实现光通信、传感、光子系统中高性能光信号处理芯片或器件奠定了基础。

    刻蚀高深度光波导的制备工艺

    公开(公告)号:CN102866458A

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201210296470.8

    申请日:2012-08-20

    Abstract: 一种刻蚀高深度光波导的制备工艺,包括以下步骤:1)用沉积法,在衬底上制备掺杂的芯层,形成平板光波导;2)用光刻工艺,在步骤1)制取的平板光波导上获得与掩模版图形相反的光刻胶掩模;3)用溅射工艺,在步骤2)获取的样品表面制备金属掩模;4)清洗去除与掩模版图形相反的光刻胶掩模及金属掩模;5)用光刻工艺,在步骤4)制作的金属掩模层上,再增加与金属掩模层具有相同图形的光刻胶层,6)使用RIE设备,通入SF4、CHF3、O2、He气体,制作光波导芯层;7)制作上包层。与标准工艺相比,这种方法可利用普通反应离子刻蚀设备制作高深度光波导,且制作的光波导具有垂直的侧壁,侧壁角度大于87度,小于93度。

    2X1光双波合路平面光波光路调制器

    公开(公告)号:CN1877375A

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200610088242.6

    申请日:2006-07-05

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种2X1光双波合路平面光波光路调制器,包括输入光波光路、定向耦合器、调制电极、M-Z干涉仪和输出光波光路,两路输入光波光路分别与光信号输入端连接,输入的光信号经过定向耦合器耦合和调制电极调制后,在M-Z干涉仪的作用下由一路输出光波光路输出,输出的光信号可以根据要求设定为开或关。本发明对两路光信号共用一个调制器/开关进行调制,节省调制器的使用数量、提高器件性能、提高集成度。它适用于各类小型化光子系统中。

    一种线偏振涡旋光束产生器及其光束产生方法

    公开(公告)号:CN119395897A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411475011.5

    申请日:2024-10-22

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种线偏振涡旋光束产生器,涉及超表面技术领域,产生器件为二氧化硅衬底,衬底上设置多个矩形柱,立方体柱呈矩阵式分布,所述立方体柱长度跟宽度由八组不同的参数组成。并且,所述立方体柱根据所在位置不同而具有不同的旋转角度。光束产生方法包括将标准W波段波导端口进行扩展以实现TE01模式输出,在垂直入射下,生成线偏振涡旋光束输出。通过控制矩形柱的几何尺寸跟旋转角度来改变透射电磁场的幅度跟相位。本发明还公开了一种线偏振涡旋光束产生器的光束产生方法,本发明双功能超表面结构简单,更加轻量化小型化,给实际应用中产生涡旋光束带来方便,还可以用产生准光光束的偏折以及高功率特殊光束的输出。

    基于K均值聚类算法的行波管电子注简化为宏粒子的方法

    公开(公告)号:CN118886289A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202410912046.4

    申请日:2024-07-09

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开一种基于K均值聚类算法的行波管电子注简化为宏粒子的方法,步骤是:随机选取电子注注腰处截面的K个粒子作为宏粒子;将注腰处截面的各个粒子划分到距离最近的宏粒子所在区域;求取每个宏粒子区域内新的宏粒子;对比新的宏粒子与前一次宏粒子的位置信息,如果一致则将该K个新的宏粒子作为最终宏粒子,否则以当前新的宏粒子为基准,重新对各个粒子划分区域并求取新的宏粒子;以K个最终宏粒子作为行波管互作用区的粒子源,进行注波互作用仿真,计算得到行波管的输出功率。此种方法既降低注腰截面粒子的数量以减少互作用区计算量,还尽可能反映原有粒子的位置分布、动量和电流等信息,使得注波互作用计算能够反映真实的行波管输出特性。

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