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公开(公告)号：CN212485277U
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202020511196.1
申请日：2020-04-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供一种效率良好地加热基板的下表面周缘部的基板处理装置。本实用新型的基板处理装置具备保持部和加热机构。保持部以基板能够旋转的方式保持该基板的下表面中央部。加热机构向基板的下表面供给加热后的流体。另外，加热机构具备多个翅片、热源、流体导入部、以及流体喷出部。多个翅片在基板的下方且是保持部的外侧沿着基板的周向配置。热源加热多个翅片。流体导入部向多个翅片导入流体。流体喷出部向基板的下表面喷出通过多个翅片而被加热了的流体。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN218602389U
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202222602256.2
申请日：2022-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种基片处理装置(1)，其包括基片旋转部(20)和杯状体。基片旋转部(20)保持基片并使其旋转。杯状体呈环状地覆盖被保持在基片旋转部(20)的基片的周围。另外，杯状体具有杯状体基部(53)、第一部件(55)和第二部件(56)。杯状体基部(53)包围基片旋转部(20)的整周。第一部件(55)可拆装地安装于杯状体基部(53)的上端部，呈环状地包围基片的外周。第二部件(56)可拆装地安装于至少第一部件(55)的内周端，表面(56a)为疏水性的。本实用新型的基片处理装置无论基片的表面状态、处理液的种类如何，都能够抑制处理液从杯状体回弹。
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公开(公告)号：CN209804606U
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201920580555.6
申请日：2019-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，其能够减少对杯体进行抽吸的排气装置的负担，并有效地防止供给到基板的处理液从基板飞散后再次附着于基板的情况。该基板处理装置中，环状的覆盖部件(5)覆盖基板保持部(3)所保持的基板(W)的上表面的边缘部，比该边缘部靠径向内侧的基板(W)中央部未被覆盖部件(5)覆盖而显露。覆盖部件(5)的下表面(52)与基板(W)的上表面的边缘部之间形成有间隙(G)，在对杯体(2)的内部空间进行排气时，在杯体(2)的内部空间的上方所存在的气体，从覆盖部件(5)的内周面(51)所包围的空间，穿过该间隙(G)被导入至杯体(2)的内部空间。
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公开(公告)号：CN213278016U
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN202021375493.4
申请日：2020-07-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴、喷嘴臂和基片处理装置。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本实用新型能够抑制颗粒的产生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN212461607U
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202020720543.1
申请日：2020-05-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本实用新型提供基片处理装置和基片处理方法。本实用新型的一方式的基片处理装置包括保持部、喷嘴臂和对位机构。保持部保持基片。喷嘴臂具有对基片的周缘部供给处理液的喷嘴。对位机构设置于喷嘴臂，用于使基片的位置与保持部中的所设定的位置对准。本实用新型能够高精度地蚀刻基片的周缘部。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN303918957S
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201630060249.1
申请日：2016-03-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：基板清洗具。2．本外观设计产品的用途：本物品是用于清洗半导体基板、液晶基板等基板的表面的基板清洗工具。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图。5．省略视图：设计1右视图和设计1左视图对称，因此省略设计1右视图。设计1仰视图与设计1俯视图对称，因此省略设计1仰视图。6．指定基本设计：设计1。
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公开(公告)号：CN306605033S
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202030057043.X
申请日：2020-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：液体喷射喷嘴的部件。
2.本外观设计产品的用途：本产品是在基板处理装置中使用的液体喷射喷嘴的部件，该基板处理装置在半导体装置等的制造工序中向半导体晶片等基板供给处理液，从而进行蚀刻等规定的基板处理。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.在主视参考图的左侧嵌入了防止处理液泄漏的环。-
公开(公告)号：CN306966194S
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202030461011.6
申请日：2020-08-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：液体喷射喷嘴。
2.本外观设计产品的用途：本产品是在基板处理装置中使用的液体喷射喷嘴，该基板处理装置通过在半导体装置等的制造工序中向半导体晶片等基板供给处理液来进行蚀刻等规定的基板处理。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。-
公开(公告)号：CN306613998S
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202030059835.0
申请日：2020-02-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：液体喷射喷嘴。
2.本外观设计产品的用途：本产品是在基板处理装置中使用的液体喷射喷嘴，该基板处理装置通过在半导体装置等的制造工序中向半导体晶片等基板供给处理液来进行蚀刻等规定的基板处理。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。
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