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公开(公告)号:CN105978520A
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201610311205.0
申请日:2016-05-12
Applicant: 电子科技大学
CPC classification number: H03H3/08 , H03H9/02574
Abstract: 本发明涉及声表波器件制造领域,特别涉及一种多层结构的SAW器件及其制备方法。该多层结构的SAW器件,从上至下依次包括叉指换能器、压电单晶薄片和Diamond薄膜。压电单晶薄片厚度1‑10nm粗糙度1‑10nm,其上制备有叉指换能器。叉指换能器厚度1‑10nm。Diamond薄膜厚度1‑10μm,粗糙度5‑10nm,制备于硅基上。本发明通过降低压电晶体的厚度,使其只是激发和接收声表面波,而声表面波的传播在金刚石内,在相同的叉指换能器指宽的情况下,能够显著提高器件的工作频率。可满足高频、高机电耦合系数、小体积的声表面波的器件应用领域的需求。