-
公开(公告)号：CN103238241A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201180057067.3
申请日：2011-11-28
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01M4/62 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/38
CPC classification number: H01M4/622 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/386 , H01M4/387 , H01M10/0525 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明提供一种锂离子电池电极用粘合剂，所述粘合剂包含含有四羧酸残基和二胺残基的聚酰亚胺前体及/或聚酰亚胺，作为四羧酸的残基，含有选自通式(1)及(2)中的四羧酸二酐的残基，作为二胺残基，含有选自通式(3)及(4)中的二胺的残基，且相对于1摩尔二胺残基，酸残基为0.90～0.95摩尔。
-
公开(公告)号：CN101213491B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200680024028.2
申请日：2006-04-18
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G03F7/0751 , C08K5/0025 , C08K5/544 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0755 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/117
Abstract: 本发明的感光性树脂组合物，其含有(a)碱可溶性树脂、(b)具有芳香族仲氨基和烷氧基的硅化合物、以及(c)选自光聚合引发剂、光酸发生剂和光碱发生剂中的至少1种。根据本发明，可以得到不损害溶液的保存稳定性、显著提高固化后的与基板的粘合性的同时，显影时不剥离微细图案的感光性树脂组合物。
-
公开(公告)号：CN1782875A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510128651.X
申请日：2005-11-23
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/38
Abstract: 本发明涉及可以在碱性水溶液中显影，并且即使是厚膜，在分辨率、感光度、图形形状方面都很好的正型感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物，其特征为含有具有酚羟基的聚合物(a)，具有酚羟基，并且只含1个从羟甲基、烷氧基甲基中选择的基团的化合物(b)以及光敏产酸剂(c)。
-
公开(公告)号：CN1577088A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062424.7
申请日：2004-07-07
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0045 , G03F7/0751
Abstract: 本发明涉及曝光后放置稳定性优异的、可碱显影的正型感光性树脂前体组合物。此外，本发明为一种感光性树脂前体组合物，其特征为包含(a)以通式(1)所示结构单元为主成分的聚合物、(b)2种或其以上的光产酸剂、(c)含有烷氧基甲基的化合物。式中R1表示具有2个或其以上碳原子的2价到8价的有机基团、R2表示具有2个或其以上碳原子的2价到6价的有机基团、R3表示氢、或碳原子数为1到20的有机基团中的任何一种。n表示10到100000，m为0到2的整数、p、q表示0到4的整数。其中p+q＞0。
-
公开(公告)号：CN119278410A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202380043092.9
申请日：2023-06-14
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种碱显影时的膜减少量小且可缩短曝光时间的、高感度的正型感光性树脂组合物。本发明是一种正型感光性树脂组合物，包含：包含氮原子的耐热树脂(B)光酸产生剂，所述(A)树脂包含式(1)所表示的构成单元，将组合物中所含的全部树脂的总量设为100质量％，所述全部树脂中的氟原子含量为15质量％以下。(式(1)中，R1表示碳数3～30的3价～12价的有机基，R2为碳数3～20的1价酸分解性基；m表示0～4的整数，n表示1～4的整数；*表示键结部位，a及b分别独立地表示1或2的整数。)#imgabs0#
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113169248B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN201980078538.5
申请日：2019-11-29
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01L31/18 , H01L21/225
Abstract: 本发明的目的在于提供无需复杂的装置、能够利用简便的方法制造具有选择性发射极结构的太阳能电池、杂质浓度的面内均匀性优异的半导体元件的制造方法和太阳能电池的制造方法。用于达到上述目的的本发明为一种半导体元件的制造方法，该制造方法在半导体基板上以2个水平以上的不同杂质浓度形成相同类型的杂质扩散层区域，其中，至少1个水平以上的杂质扩散层区域通过包括：将杂质扩散组合物(a)涂布至半导体基板而部分地形成杂质扩散组合物膜(b)的工序；和将其加热以使杂质扩散至半导体基板中而形成杂质扩散层区域(c)的工序的方法形成，杂质扩散组合物(a)包含(a‑1)具有特定结构的硅烷化合物的聚合物和(a‑2)杂质扩散成分。
-
公开(公告)号：CN118679429A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202380020743.2
申请日：2023-03-01
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有高耐热性、高透明性的特性，并且兼具高灵敏度且高残膜率的图案成形性能、高保存稳定性的正型感光性组合物，作为其解决手段，宗旨在于提出一种含有(a)聚硅氧烷、及(b)式(1)所表示的萘醌二叠氮化合物的正型感光性树脂组合物。[化1](式(1)中，R1表示碳数1～8的烷基；Q表示下述结构所表示的萘醌二叠氮磺酰基或氢原子；在式(1)中，全部Q中的至少一个Q为萘醌二叠氮磺酰基；n表示0～4的整数，m表示4～8的整数；X表示碳数4～30的四价～八价的有机基。)[化2](所述结构中，＊表示键结部位。)#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN111771258B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN201980015220.2
申请日：2019-03-07
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01L21/225 , H01L21/22 , H01L31/18
Abstract: 本发明的目的是提供涂布液的保存稳定性优异，能够提高丝网印刷时的连续印刷性、和向半导体基板均匀扩散的杂质扩散组合物。为了达到上述目的，本发明的杂质扩散组合物含有：(A)侧链包含选自下述通式(1)和通式(2)中的至少1个结构的聚合物(以下，称为(A)聚合物)；以及(B)杂质扩散成分。(在通式(1)和通式(2)中，R1～R14各自独立地表示氢原子、或碳原子数1～8的有机基。a1表示整数1～4，a2和a3各自独立地表示整数0～2。a2+a3表示整数0～3。*表示与聚合物的结合部分。)#imgabs0#
-
-
公开(公告)号：CN113169248A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980078538.5
申请日：2019-11-29
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01L31/18 , H01L21/225
Abstract: 本发明的目的在于提供无需复杂的装置、能够利用简便的方法制造具有选择性发射极结构的太阳能电池、杂质浓度的面内均匀性优异的半导体元件的制造方法和太阳能电池的制造方法。用于达到上述目的的本发明为一种半导体元件的制造方法，该制造方法在半导体基板上以2个水平以上的不同杂质浓度形成相同类型的杂质扩散层区域，其中，至少1个水平以上的杂质扩散层区域通过包括：将杂质扩散组合物(a)涂布至半导体基板而部分地形成杂质扩散组合物膜(b)的工序；和将其加热以使杂质扩散至半导体基板中而形成杂质扩散层区域(c)的工序的方法形成，杂质扩散组合物(a)包含(a‑1)具有特定结构的硅烷化合物的聚合物和(a‑2)杂质扩散成分。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
47
records
(took 0.038 seconds)
