一种片式电容器的制备方法

    公开(公告)号:CN112490001B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202011316705.6

    申请日:2020-11-23

    Abstract: 本发明公开了一种片式电容器的制备方法,其中包括预置模块和制备片式电容器单体,预置模块为能将多片电容器单体并联连接且即插即用任意调整电容容量的装置,根据需要将多片电容器单体插入预置模块中构成所述片式电容器,片式电容器单体的制备方法包括了电容器主体介质材料制备、表面电极制备、表面沉积钝化层和制作电接触窗口等步骤。本发明可与半导体芯片微纳加工工艺兼容,适用于各种陶瓷及微晶玻璃电介质材料,所制备的单片式微晶玻璃电容器在预置模块中可实现即插即用的简便化操作,易于实现对电容器的快速维护保养,解决了目前具有独石结构的片式电容器或薄膜电容器制备工艺无法兼容微晶玻璃电介质材料且难于维护保养的问题。

    用于光学测温的氟磷灰石纳米玻璃陶瓷材料及制备方法

    公开(公告)号:CN109912224B

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN201910076707.3

    申请日:2019-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种用于光学测温的氟磷灰石纳米玻璃陶瓷材料及制备方法。所述纳米玻璃陶瓷材料包括氧化物玻璃基体,所述氧化物玻璃基体中含有掺杂了Yb3+和Er3+的Ca5(PO4)3F纳米晶体;氧化物玻璃基体的组成中至少含有15~25mol%的CaF2、25~35mol%的ZnO、6~12mol%的P2O5和34~44mol%的B2O3,外加占上述氧化物总量0.5~1.5mol%的Yb2O3和0.04~0.08mol%的Er2O3。所述纳米玻璃陶瓷材料的制备方法:按照氧化物玻璃基体的组成配比,配制成的混合粉体研磨混合均匀后置于坩埚中,加热到1100~1250℃,保温1~2小时;然后将所得玻璃熔液快速倒入420~450℃预热的铜模中成型并退火10小时得到基质玻璃;退火后的基质玻璃继续在660~680℃保温2~6小时使之发生晶化。

    一种低介低烧基板材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN108191246B

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201810151932.4

    申请日:2018-02-14

    Abstract: 本发明公开了一种低介低烧基板材料及其制备方法。所述材料的组成中至少包括了:7.0~9.0 mol%的MgO,43.0~45.0 mol%的ZnO,13.0~15.0 mol%的B2O3,34.0 mol%的P2O5,0.5~1.0mol%Ga2O3和0.5mol%Sc2O3。所述基板材料是一种具有超低介电常数、高品质因数以及小谐振频率温度系数的微晶玻璃基板材料,其在测试频率(15‑16 GHz)下的相对介电常数(Er)低至3.02‑3.15,谐振频率温度系数绝对值(Tcf)低至57‑70 ppm/oC,品质因数(Qxf)可以达到11500‑14000GHz。

    一种微晶玻璃基板材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN107572827A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710998285.6

    申请日:2017-10-20

    Abstract: 本发明公开了一种微晶玻璃基板材料及其制备方法。所述材料的组成中至少包括了:9~10 mol%的CaO,40~42 mol%的ZnO,13~15 mol%的B2O3,35 mol%的P2O5和0~1.5mol%的TiO2。所述基板材料是一种具有低介电常数、高品质因数以及小谐振频率温度系数的微晶玻璃基板材料,其在测试频率(13-15GHz)下的相对介电常数(Er)低至4.18-4.76,谐振频率温度系数绝对值(Tcf)低至13-28 ppm/oC,品质因数(Qxf)可以达到9100-25000GHz。

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