公开(公告)号：CN1689981A

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200510067500.8

申请日：2005-04-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 出健志 ,  阿部法光 ,  有村良一 ,  栗原潮子 ,  毛受卓 ,  村山清一 ,  横川勝也 ,  君島和彦 ,  宫島康行 ,  黒川太 ,  中野壮一郎 ,  海賀信好

IPC: C02F1/78

Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19，调整臭氧气体注入量。

公开(公告)号：CN1495130A

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：CN03124937.X

申请日：2001-11-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 村山清一 ,  黑川太 ,  金子政雄 ,  居安巨太郎 ,  田口健二 ,  久保贵惠 ,  环省二郎 ,  平本昭 ,  林巧 ,  海贺信好

IPC: C02F1/00 ,  C02F1/44 ,  G01N23/223

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  B01D61/22 ,  B01D2311/04 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F1/78 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/40 ,  Y10S210/908 ,  B01D2311/16

Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备，和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值，活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值，由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。